[发明专利]盘片卷标面聚焦控制方法有效

专利信息
申请号: 200710142379.X 申请日: 2007-08-22
公开(公告)号: CN101373605B 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 黄士韦;黄识忠 申请(专利权)人: 广明光电股份有限公司
主分类号: G11B7/09 分类号: G11B7/09;G11B23/40
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 葛宝成;黄小临
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 盘片 卷标面 聚焦 控制 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光驱,特别涉及一种具有光雕功能的光驱中,在盘片卷标面进行光雕卷标时,用以聚焦控制的方法。 

背景技术

一般具有光雕(Lightscribe)功能的光驱,是在盘片卷标面涂上一层涂料,利用光学头射出激光束聚焦在光盘卷标面,当激光束功率(Power)大于某一程度时,标签面会产生变化,而形成卷标图案。因此光学头需要将激光束焦点一直聚焦在转动的盘片卷标面上,才能获得卷标图案。 

现有光驱在盘片数据面聚焦时,是藉由电压所产生的电磁力,驱动光学头上下移动,控制光学头光束投射在盘片上。再由盘片数据面将光束反射回光学头,照射在光能转换器,由照射位置强度的差值,形成聚焦误差信号FE(Focus Error),输入一聚焦伺服单元,根据聚焦误差信号FE大小,控制光学头上下移动,让光束一直聚焦在盘片上。但是卷标面的涂料并不如光盘数据面均匀,对光的反射亦不如数据面,所产生聚焦误差信号FE的强度及稳定性,并不足以作为聚焦伺服。 

因此,如图1所示,为一般盘片卷标面控制聚焦的方式,是藉由电压所产生的电磁力,驱动光学头1所承载物镜2产生上下移动,控制光学头1光束投射在盘片D卷标面上。再由卷标面将光束反射回光学头1,照射在光能转换器3。光能转换器3包含等分为A、B、C及D等四个光接收部,分别接收反射光束中不同的区域,感光转换接收的光量形成相对强度的电信号。经放大器4放大相加(A+B+C+D)形成较强的光总合信号。光学头1在一定距离P的上下移动过程中,所测的波形光总合信号,因聚焦点a位于标签面上所产生反射光最强,光总合信号最大,卷标面上下两边的光总合信号,则随距离加大而衰减。如卷标面位于光学头1上下移动的中点,标签面上下两边光总合信号对称且两边的总合相同(如波形实线所示),否则标签面偏那边,就那边的光总合信号总合较大(如波形虚线所示)。 

目前现有盘片卷标面是藉由卷标面上下两边光总合信号的总合差值大小,判断聚焦点与标签面偏移的方式控制聚焦。如图2所示,为决定光总合信号差值的方式,首先将盘片卷标面用以定角度方位的400根条形码(Spoke),以50根条形码为一组分成8等份,每一组50根条形码中又以其中25根条形码,在光学头绕盘片卷标面一圈中,如图2(a),以三角波电压推升光学头,并记录沿途的光总合信号,如图2(b)接着在光学头绕盘片卷标面另一圈中,以三角波电压下降光学头,并记录沿途的光总合信号,然后,如图2(c),将各组条形码中上升及下降的光总合信号,以各组为单位相减,形成各组的误差量,由误差量的大小,可知每一等份条形码,标签面在垂直方向上的变化,利用适应性控制决定相关控制电压的参数,以电压控制光学头上升或下降进行聚焦。 

然而,当光学头由内圈移动到外圈刻画卷标时,由于盘片翘起、变形、摆动或光驱结构等因素,外圈的垂直方向的变化远大于内圈,造成光学头严种程度的失焦,即使调整三角波电压,也无法改善,导致光总合信号无法反应出适当的误差,使得控制电压的参数不准确,而影响标签的清析度,甚至无法雕刻卷标图案。因此,前述标签面控制聚焦方法,仍有问题存在,有待决解决。 

发明内容

本发明的目的在提供一种盘片卷标面聚焦控制方法,藉由基底电压所形成光总合信号的差值信号,构成随卷标面垂直方向变化的控制电压。 

本发明另一目的在提供一种盘片卷标面聚焦控制方法,利用基底电压配合差值信号,形成逼近的控制电压曲线,取得准确的参数,以准确控制标签面聚焦。 

本发明再一目的在提供一种盘片卷标面聚焦控制方法,以各条形码作为控制标签面聚焦,使标签面聚焦更加准确,以提升刻画卷标的品质。 

本发明又一目的在提供一种盘片卷标面聚焦控制方法,藉所得的控制电压曲线进行实测,检视实测的落差,重复逼近控制电压曲线,以准确控制卷标面聚焦。 

为了达到前述发明的目的,本发明的盘片卷标面聚焦控制方法,以一预设基底电压控制一光学头绕盘片卷标面一圈进行聚焦,测量及记录光总合信 号,比较出最大光总合信号,减去各位置的光总合信号形成一差值信号,增益差值信号成增益信号,将基底电压加上增益信号成一上参电压,将基底电压减去增益信号成一下参电压,以上下参电压作为控制聚焦电压,检测及记录光总合信号,比对出每一位置最大的光总合信号,以相对的电压,利用曲线逼近法,形成逼近控制聚焦电压曲线,以决定最佳的控制聚焦的参数。 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广明光电股份有限公司,未经广明光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710142379.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top