[发明专利]光波干涉测定装置及光波干涉测定方法

权利要求书

1.一种光波干涉测定装置，包括：

测定用光束照射机构，其对具有透镜部以及从该透镜部的外缘部相对于该透镜部的光轴大致垂直地突出的突出面的被检测透镜，照射测定用光束；

被检测体支撑机构，其以与所述测定用光束相面对的方式，且以使该测定用光束照射所述透镜部和所述突出面的至少一部分的方式，支撑所述被检测透镜；

基准球面反射机构，其具有基准球面，并在该基准球面中，对透过所述透镜部的所述测定用光束进行反射；

干涉机构，其使透过所述透镜部后的所述测定用光束被所述基准球面反射而再透过该透镜部而成的透镜部透过光与参照光相干涉，并且使所述测定用光束被所述被检测透镜反射而成的被检测透镜反射光与参照光相干涉；

摄像机构，其对由所述干涉所产生的干涉条纹进行摄像；

倾斜姿势可变机构，其使所述被检测透镜和所述基准球面反射机构的相对倾斜姿势变化；以及，

3轴方向位置可变机构，其使所述被检测透镜和所述基准球面反射机构的相互垂直的、3轴方向的相对位置改变，其特征在于，

还备有：

被检测透镜整体中心位置指定机构，其基于由所述被检测透镜反射光和所述参照光的干涉所得到的第1干涉条纹图像，将包含所述突出面的所述被检测透镜整体的中心位置，在图像平面中进行指定；

光轴倾斜调整机构，其基于所述第1干涉条纹图像，使用所述倾斜姿势可变机构，以所述被检测透镜的光轴和所述基准球面的光轴接近于互相成为平行的状态的方式，进行该2个光轴的相对的倾斜调整；

第1相对位置调整机构，其根据所述被检测透镜整体的中心位置的所述图像平面上的位置信息或与所述2个光轴的相对倾斜调整相伴而产生的所述被检测透镜的移动量信息，使用所述3轴方向位置可变机构，调整所述被检测透镜和所述基准球面的相对位置，以使得透过所述透镜部的所述测定用光束接近于能够大致垂直地入射到所述基准球面的状态；

第2相对位置调整机构，其在基于所述光轴倾斜调整机构及所述第1相对位置调整机构的调整后，基于由所述透镜部透过光和所述参照光的干涉所得到的第2干涉条纹图像，使用所述3轴方向位置可变机构，调整所述被检测透镜和所述基准球面的相对位置，以使得透过所述透镜部的所述测定用光束成为能够大致垂直地入射到所述基准球面的状态。

2.根据权利要求1所述的光波干涉测定装置，其特征在于，

所述被检测透镜整体中心位置指定机构，被构成为：在所述第1干涉条纹图像中，对与所述透镜部和所述突出面的边界线相对应的位置进行指定，并基于该边界线的位置信息，求出所述被检测透镜整体的中心位置。

3.根据权利要求2所述的光波干涉测定装置，其特征在于，

所述被检测透镜整体中心位置指定机构，被构成为：在所述第1干涉条纹图像中将与所述被检测透镜相对应的区域的重心位置作为所述被检测透镜整体的临时中心位置，并基于该临时中心位置而指定规定的探索区域，在该探索区域中，求取所述边界线的位置。

4.根据权利要求1或2所述的光波干涉测定装置，其特征在于，

具备：

突出面区域抽出掩模产生机构，其在所述第1干涉条纹图像上，基于所述被检测透镜整体的中心位置，产生仅仅对与所述突出面对应的区域进行抽出的突出面区域抽出掩模；以及

突出面区域抽出掩模移动机构，其根据与所述2个光轴的相对的倾斜调整相伴而发生的、所述图像平面上的所述被检测透镜整体的中心位置的移动，使所述突出面区域抽出掩模移动。

5.根据权利要求4所述的光波干涉测定装置，其特征在于，

所述光轴倾斜调整机构，被构成为：基于与由所述突出面区域抽出掩模抽出的所述突出面相对应的区域内的干涉条纹信息，进行所述2个光轴的相对的倾斜调整。