[发明专利]孔容积的光学测量方法无效

专利信息
申请号: 200710142859.6 申请日: 2007-08-01
公开(公告)号: CN101109621A 公开(公告)日: 2008-01-23
发明(设计)人: 徐春广;肖定国;朱文娟;冯忠伟;郝娟;周世圆 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B21/00
代理公司: 北京华夏正合知识产权代理事务所 代理人: 韩登营;吴建国
地址: 100081北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 容积 光学 测量方法
【权利要求书】:

1.一种孔容积的光学测量方法,其特征是包括以下步骤:

a.将激光光源放入待测孔内并使其发光;

b.用与激光光源相向设置的光拾取装置拾取由孔壁反射的光;

c.采用伺服电机驱动激光光源和光拾取装置沿孔的轴线方向匀速前进;

d.通过光拾取装置反复拾取孔壁反射的光,取得孔待测终点前的所需数据,对所述数据进行处理得出孔容积。

2.如权利要求1所述的孔容积的光学测量方法,其特征在于:所获得的数据包括每个截面的直径和对应的轴向位置,利用分段积分的方法对孔容积进行计算。

3.如权利要求1所述的孔容积的光学测量方法,其特征在于:

激光光源和光拾取装置沿孔的轴线方向前进的速度为1-5mm/s。

4.如权利要求1所述的孔容积的光学测量方法,其特征在于:

在激光光源和光拾取装置沿孔的轴线方向匀速前进的过程中,由计算机触发同步信号,控制光拾取装置进行图像采样,同时控制位置编码器返回上述光拾取装置或激光光源相对于起始测量位置的轴向位置。

5.如权利要求4所述的孔容积的光学测量方法,其特征在于还包括如下步骤:

采样图像的频率根据孔数字化模型的曲率变化而变化,范围为0.5~2Hz。

6.如权利要求1所述的孔容积的光学测量方法,其特征在于还包括如下步骤:

导入孔的设计长度,当位置编码器返回的测量装置轴向位置大于孔的待测部分设计长度30-50mm时,停止测量。

7.如权利要求1所述的孔容积的光学测量方法,其特征在于,根据孔的设计数据建立数字化模型,导入孔电子塞规,将此次孔的实际测量数据同电子塞规作相关性处理,以获得相关系数最高的轴向位置为孔的待测部分的终点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710142859.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top