[发明专利]光学膜片及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学膜片及其制造方法，特别是涉及一种具有不平整界面的光学膜片及其制造方法。 

背景技术

目前显示器屏幕上常设一光学膜片以加强显示器的影像品质，光学膜片通常包括一透明基底及一种以上的形成于该透明基底上的功能性涂层，例如硬化膜、硬化抗静电膜、抗眩膜、抗反射膜等。 

然而，由于光线通过具有不同折射率的介质时，部分光线会在界面产生反射光，当功能性涂层的厚度大于1微米(μm)时，容易造成外部入射光线在不同界面发生的反射光因光程差而产生干涉现象。以图1所示为例，当一入射光2由外部射入功能性涂层12时，在空气(图未标号)与功能性涂层12的界面121会产生第一反射光21，而在功能性涂层12与透明基底11的界面111产生第二反射光22，第一、第二反射光21、22遵循反射定律形成在实质相同的方向上，又因功能性涂层12的厚度约为可见光波长(400nm～700nm)的数倍，使得第一、第二反射光21、22容易因光程差发生干涉，导致干涉条纹的产生，反而降低显示器的影像品质。 

现有针对光学膜片改善干涉现象的方式，可举例如，利用降低功能性涂层与透明基底的折射率差以减少干涉现象的方法，但是降低折射率差的同时却也造成后续再施加低折射率涂层时抗反射功能的损失。或者，例如中国台湾专利公开号第200626368号揭露一种光学层合体，包括一光透过性基材及依序形成于该基材上的防静电层及硬涂膜层，特征在于其中的硬涂膜层是使用含有树脂及浸透性溶剂的组成物，该浸透性溶剂浸透到该防静电层及该光透过性基材中。利用该浸透性溶剂使包含于该防静电层中的防静电剂分散于该防静电层或该光透过性基材中，可实质上消除该光透过性基材与该防静电层的界面，以减少干涉现象。由于前述光学层合体必须依序涂布防静电层及含有浸透性溶剂的硬涂膜层，并使浸透性溶剂浸透到该防静电层及该光透过性基材中，所以在制程上需分别调制防静电层用涂料及硬涂膜层用涂料，再依序涂布于基材上，不仅制程较为繁复，也不容易监控浸透性溶剂在该防 静电层及该光透过性基材中渗透情形，而且在膜层材料的使用上也受到较多限制。据上所述，如何以较为简便且有效的方式改善功能性涂层所产生的干涉现象，仍为一待解决的课题。 

发明内容

发明人等经由多方研究与实验发现，若将透明基底与功能性涂层的界面粗糙化，可利用该粗糙界面作为折射率缓冲层，当入射光入射到该粗糙界面时会产生散射及破坏性干涉，而不易在特定方向产生反射光，因此无法与在功能性涂层与空气的界面所形成的反射光产生干涉，所以能有效消除干涉条纹。再者，发明人等利用可溶解透明基底的溶剂侵蚀透明基底表面，使透明基底表面具有纳米级的表面平均粗糙度，不仅能有效消除干涉条纹，且能避免表面粗糙度过大，而导致光学膜片的雾度值过高。又，此方式仅需使透明基底的一表面粗糙化即可，可适用于多种不同材质的功能性涂层，所以具有制程简便及应用范围广的优点。 

因此，本发明的课题即在于提供一种可以避免反射光发生干涉以防止干涉条纹产生的光学膜片。 

此外，本发明也提供一种可以利用简便的制程制作光学膜片的方法。 

本发明的光学膜片包括一透明基底及一形成于该透明基底上的功能性涂层，特征在于：该透明基底的一与该功能性涂层接触的面为一粗糙表面。 

该粗糙表面的表面平均粗糙度(Ra)以介于40～120nm为较佳。若表面平均粗糙度小于40nm，消除干涉纹的效果较差；若表面粗糙度大于120nm，则伴随表面粗糙度变大而上升的光学膜片的雾度值(Haze)会超过1.5％，使得应用范围较为受限。 

适用于制作本发明的透明基底的材质以可挠性塑料为宜，具体例如三醋酸纤维素(TAC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，及聚碳酸酯(PC)等。 

另外，本发明的功能性涂层可视使用需求而为单层膜或多层膜，其中多层膜因可符合多功能需求而为较常见的形式，例如该功能性涂层可包括一形成于该透明基底上的硬化抗静电膜及一形成于该硬化抗静电膜上的抗反射膜。硬化抗静电膜可兼具抗静电(anti-statistic)以及抗刮伤(scratch resistance)性质，其厚度至少需为μm等级以上。抗反射膜具有较硬化抗静电膜为小的折射率，厚度约为100nm。 

本发明的光学膜片的制作方法是先提供一具有一粗糙表面的透明基底，再于该粗糙表面上形成一功能性涂层，以形成一可借该粗糙表面产生光散射及破坏性干涉作用而减少干涉现象的光学膜片。