[发明专利]一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法

权利要求书

1、一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法，其特征在于：可以按照下述技术方案实现：

第一步，准备双通氧化铝模板；

第二步，在上述双通氧化铝模板的一面镀上工作电极；

第三步，在室温下，制备A液和B液备用，A液由体积比为15∶4-15∶3.5的无水乙醇和酯类组成，B液由体积比为15∶4∶1.8 15∶4∶2的无水乙醇、冰醋酸和去离子水组成；

第四步，在搅拌的同时，将A液缓慢滴加到B液中，并继续搅拌；滴加硝酸调节pH值，形成在室温下稳定的溶胶；

第五步，将第二步得到的氧化铝模板作为阴极，在第四步得到的溶胶中进行电泳沉积，将电泳沉积过后的模板在一定温度下退火，即可得到二氧化钛纳米线阵列。

2、根据权利要求1所述的一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法，其特征在于：上述第三步所述酯类为钛酸四丁酯或钛酸四异丙酯。

3、根据权利要求1所述的一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法，其特征在于：上述第四步所述的搅拌为磁力搅拌，上述溶胶的pH值为2-4。

4、根据权利要求1所述的一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法，其特征在于：上述第五步所述的电泳沉积中，阳极采用石墨电极，电压值取2-6V，沉积时间为1-6小时，退火温度为500℃-580℃，退火时间为12-24小时。

5、根据权利要求1所述的一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法，其特征在于：上述第一步中的双通氧化铝模板通过如下方法制得：

第1步，取一纯度为99.99％的高纯铝片，对其进行表面预处理：将高纯铝片放在丙酮中超声清洗，清洗干燥后将铝片在真空400-500℃下退火4小时，然后在体积比9∶1的无水乙醇和高氯酸的混合液中进行电化学抛光，抛光电流为300mA/cm²，抛光在冰水浴中进行，抛光时间为60-120秒；

第2步，将经过第1步处理的铝片置于浓度为0.3mol/l的草酸溶液中，进行第一次阳极氧化，阳极为所述的铝片，阴极为铅电极，溶液温度为10℃，阳极氧化所用的电压为40V，时间为4-6小时；

第3步，将经过第2步处理的铝片浸在浓度为6wt％的磷酸和浓度为1.8wt％的铬酸的混合液中，在60℃下，化学腐蚀4-6小时，除去表面生成的氧化铝膜；

第4步，将经过第3步处理的铝片进行第二次阳极氧化，条件与第二步相同，阳极氧化时间为6-18小时，得到不同长径比的高度有序的氧化铝模板；

第5步，将第4步得到的氧化铝模板进行后续处理：用饱和的SnCl₄溶液除去模板背面剩余的铝层，再用6wt％的磷酸溶液在30℃下腐蚀去除阻拦层，得到完全贯通的双通氧化铝模板。