[发明专利]用于一显影机台的液体回收装置及包含该装置的显影机台

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于一显影机台的液体回收装置，尤其涉及一种防止显影液与空气大量接触的液体回收装置，可应用于须使用显影工艺的设备，尤其是薄膜晶体管(thin-film transistor，TFT)的工艺设备。

背景技术

为了达到组件微小化的目的，目前工业界常使用显影工艺制造元件，例如制造电子工业的电子元件、机械工业的微机械、显示器工业的薄膜晶体管等等。显影工艺简言之，先于一工件(例如一基板)上均匀涂布一合适的液体，之后将该基板烘烤及曝光，并进行后续程序。

图1所示为一现有技术显影机台的涂布区域示意图，该显影机台运作方式简述如下：一基板101通过一输送装置103沿一运送方向105输送一涂布区域107。当基板101通过一位于涂布区域107中的液体施配装置109的喷嘴(nozzle)(图未标示)下方时，液体施配装置109将欲配施的一液体(例如含四甲基氢氧化铵((CH₃)₄NOH，TMAH)的显影液)由喷嘴流出，使该液体(图未绘示)均匀涂布于该基板101的上表面。待基板101完全通过液体施配装置109后，该基板101的上表面将布满该液体。

然而，当系统于闲置状态(idle)时，意即当无任何基板101通过液体施配装置109下方时，该液体仍持续由液体施配装置109的喷嘴流出。于此一状态下，液体将通过一回流路径(例如一导板113)回流至液体回收槽111，以便回收再使用。当液体回流至液体回收槽111的途中，因回流路径为一开放空间，将致使显影液与空气大量接触。某些显影液中的某些化学成分-例如前述显影液的TMAH-可与空气产生额外的化学反应。当额外的化学反应产生时，可能致使显影液的反应浓度下降，导致其与光阻反应速度减缓、显影后产品的质量不稳定及无法掌握稳定的显影参数的问题。而且当机台闲置后复机时，为改善浓度降低所造成的问题，必须更换显影液，此将造成显影液成本的提升、且工艺更加复杂。

以含TMAH的显影液为例，显影液包含TMAH及水，其中TMAH为显影液的主成分及主要反应物。于显影液回流路径中，空气中的二氧化碳(CO₂)将溶于水，并产生碳酸(H₂CO₃)，而碳酸会与TMAH产生一如下的酸碱中和反应：

CO₂+H₂OH₂CO₃H⁺+HCO₃^-

(CH₃)₄NOH+H₂CO₃H₂O+(CH)₄N-CO₃H

此一中和反应会致使TMAH的可反应浓度下降，进而导致前述的问题发生。

有鉴于此，提供用于一显影机台的液体回收装置以减少显影液与空气接触，乃为业界急待解决的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种用于一显影机台的液体回收装置及包含该液体回收装置的显影机台。

为实现上述目的，本发明所提供的显影机台，包含一液体施配装置，用以配施液体；一输送装置，用以将一基板沿一方向运送，进入一涂布区域，以将该液体施配装置所配施的液体均布于该基板的一表面上；以及一液体回收装置，包含：一液体容器；以及一驱动装置，其装设于该液体容器的一侧，用以带动该液体容器至一位置，承接该所配施的液体。

而且，为实现上述目的，本发明所提供的液体回收装置则包含：一液体容器；以及一驱动装置，其装设于该液体容器的一侧，用以带动该液体容器至一第一位置，承接该所配施的液体。本发明的液体回收装置可减少显影液与空气进行化学反应，以保持显影液的浓度，使得显影反应的速度达到均一稳定，从而改善产品质量，提升良率，并可进一步避免机台闲置后复机时，因浓度降低而必须更换显影液所浪费的成本。

为让本发明的上述目的、技术特征和优点能更明显易懂，下文以较佳实施例配合所附附图进行详细说明。

附图说明

图1现有技术显影机台的涂布区域示意图；

图2A本发明液体回收装置的液体容器位于第二位置示意图；

图2B本发明液体回收装置的液体容器位于第一位置示意图；以及

图3本发明另一态样中液体回收装置的液体容器位于第二位置示意图。

其中，附图标记：

101、201、301：基板