[发明专利]变换光钳夹的装置与方法

权利要求书

1.一种形成光钳夹的装置，包括：

衍射光学元件，包括多个相位延迟图形；

掩模单元，包括对应于所述相位延迟图形的多个掩模图 形，从各所述相位延迟图形穿过的激光对应穿过各所述掩模图 形后以形成合成衍射图形，其中所述掩模图形为至少部份互 补；以及

物镜，接收所述合成衍射图形并在检测试件上聚焦形成 所述合成衍射图形的光钳夹。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述相位延迟图形包括：

第一相位延迟图形，激光穿透所述第一相位延迟图形形 成第一衍射图形；以及

第二相位延迟图形，激光穿透所述第二相位延迟图形形 成不同于所述第一衍射图形的第二衍射图形。

3.根据权利要求2所述的装置，所述掩模图形包括：

第一掩模图形，对应所述第一相位延迟图形；以及

第二掩模图形，对应所述第二相位延迟图形，所述第一 掩模图形与所述第二掩模图形相加后的掩模穿透率基本上等 于0；

其中，激光穿透所述第一相位延迟图形与所述第二相位 延迟图形，并分别对应穿透所述第一掩模图形与所述第二掩模 图形后，合成所述合成衍射图形。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，当所述合成衍射图形再经 过另一第一掩模图形后，产生近似于所述第一衍射图形的第三 衍射图形，以变换所述光钳夹的形状。

5.根据权利要求3所述的装置，其中，当所述合成衍射图形再经 过另一第二掩模图形后，产生近似于所述第二衍射图形的第四 衍射图形，以变换所述光钳夹的形状。

6.根据权利要求1所述的装置，其中所述掩模单元包括多个掩模 元件，所述掩模图形位于所述掩模元件上。

7.根据权利要求6所述的装置，其中各所述掩模元件为可程序化 掩模元件。

8.根据权利要求6所述的装置，其中各所述掩模元件的材质包括 电致变色材料。

9.根据权利要求6所述的装置，其中至少一个掩模元件位于所述 物镜的焦平面处。

10.根据权利要求6所述的装置，其中至少一个掩模元件位于所述 衍射光学元件的出光面处。

11.根据权利要求6所述的装置，还包括：

至少一个透镜组，设置在所述衍射光学元件与所述物镜 之间，至少一个掩模元件位于所述透镜组的焦平面处。

12.一种形成光钳夹的方法，包括：

(a)使激光穿透多个相位延迟图形；

(b)使从各所述相位延迟图形穿过的激光对应穿过多个 掩模图形后以形成合成衍射图形，其中所述掩模图形至少部份 互补；以及

(c)使所述合成衍射图形聚焦于检测试件上并形成光钳 夹。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述步骤(a)包括：

(a1)使激光穿透所述相位延迟图形的第一相位延迟图形 以形成第一衍射图形；以及

(a2)使激光穿透所述相位延迟图形的第二相位延迟图形 以形成不同于所述第一衍射图形的第二衍射图形。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述步骤(b)包括：

(b1)使激光穿透所述第一相位延迟图形与所述第二相 位延迟图形，并分别对应穿透所述掩模图形的第一掩模图形与 第二掩模图形后以合成所述合成衍射图形，所述第一掩模图形 与所述第二掩模图形相加后的掩模穿透率基本上等于0。

15.根据权利要求14所述的方法，在步骤(b)与步骤(c)之间 还包括步骤：

(d)使所述合成衍射图形再经过另一第一掩模图形，以 产生近似于所述第一衍射图形的第三衍射图形，由此以变换所 述光钳夹的形状。