[发明专利]抛光用组合物以及抛光方法有效
| 申请号： | 200710146854.0 | 申请日： | 2007-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN101130667A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 野口直人;树神和利;庭野裕 | 申请（专利权）人： | 福吉米股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李平英 |
| 地址： | 日本岐阜*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 以及 方法 | ||
【权利要求书】：
1.抛光用组合物，其特征在于：抛光用组合物中的钠离子和乙酸离子其中之一的浓度为10ppb或以下。
2.抛光用组合物，其特征在于：抛光用组合物中的钠离子和乙酸离子的浓度分别为10ppb或以下。
3.权利要求1或2的抛光用组合物，该抛光用组合物含有水溶性高分子、碱和磨粒。
4.抛光方法，其特征在于：使用权利要求1-3中任一项的抛光用组合物对半导体晶片表面进行抛光。
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