[发明专利]光学元件、其制造方法以及投影机无效
申请号: | 200710147814.8 | 申请日: | 2007-08-30 |
公开(公告)号: | CN101135745A | 公开(公告)日: | 2008-03-05 |
发明(设计)人: | 远藤隆史;桥爪俊明 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G03B21/14 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 制造 方法 以及 投影机 | ||
1.一种光学元件,其特征在于,具备:
第1基板;
第2基板;
相位差板,其具有薄板状的主体部分,该主体部分以无机材料所形成,具有折射率各向异性,并且相比较于前述第1基板及前述第2基板的厚度而形成得薄,配置于前述第1基板与前述第2基板之间;
第1粘接剂层,其填充于前述第1基板与前述相位差板之间;和
第2粘接剂层,其填充于前述相位差板与前述第2基板之间。
2.按照权利要求1所述的光学元件,其特征在于:
前述第1粘接剂层的折射率,与前述第2粘接剂层的折射率大致相等。
3.按照权利要求2所述的光学元件,其特征在于:
前述相位差板的折射率,与前述第1及第2粘接剂层的折射率大致相等。
4.按照权利要求1~3中的任何一项所述的光学元件,其特征在于:
前述相位差板,在产生相位差的薄板状的主体部分的周围的至少一部分,还具备具有比该主体部分厚的厚度的厚壁部。
5.按照权利要求1~4中的任何一项所述的光学元件,其特征在于:
前述相位差板,以水晶所形成;前述第1及第2基板,以水晶、蓝宝石及玻璃的任一种所形成。
6.按照权利要求1~5中的任何一项所述的光学元件,其特征在于:
前述第1及第2粘接剂层,由光固化性树脂所形成。
7.一种投影机,其通过投影透镜而投影像光,该像光由通过照明装置所照明的光调制装置形成;该投影机的特征在于,具备:
权利要求1~6中的任何一项所述的光学元件。
8.按照权利要求7所述的投影机,其特征在于:
前述光调制装置,具备透射型的液晶面板和夹持前述液晶面板所配置的一对偏振元件;前述光学元件,配置于前述一对偏振元件的至少一方与前述液晶面板之间。
9.按照权利要求7所述的投影机,其特征在于:
前述光调制装置,具备反射型的液晶面板和对应于前述液晶面板所设置的偏振分束器;前述光学元件,配置于前述偏振分束器与前述液晶面板之间。
10.一种光学元件的制造方法,其特征在于,包括以下工序:
通过对以无机材料所形成、具有折射率各向异性的平板构件进行蚀刻,形成具有产生预定的相位差的厚度的主体部分的相位差板;
在相比较于前述相位差板的主体部分的厚度而形成得厚的第1基板上,通过第1粘接剂层载置前述相位差板,相对于前述第1基板按压该相位差板的周围;和
在前述相位差板上,通过第2粘接剂层载置相比较于前述相位差板的主体部分的厚度而形成得厚的第2基板,将其相对于前述相位差板进行按压。
11.按照权利要求10所述的光学元件的制造方法,其特征在于:
在前述平板构件的蚀刻工序中,对前述平板构件的表面之中的除了对应于前述主体部分的中央部分的表侧的面的周围和前述平板构件的背面进行遮蔽,并将处于被遮蔽的状态的前述平板构件浸渍于湿蚀刻液中。
12.按照权利要求10或11所述的光学元件的制造方法,其特征在于:
在通过前述第1粘接剂层将前述相位差板载置于前述第1基板上进行了按压之后,以紫外线使该第1粘接剂层固化;在通过前述第2粘接剂层将前述第2基板载置于前述相位差板上进行了按压之后,以紫外线使该第2粘接剂层固化。
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