[发明专利]光学头装置无效
申请号: | 200710148892.X | 申请日: | 2007-09-06 |
公开(公告)号: | CN101140774A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 佐佐木雅树;周永海 | 申请(专利权)人: | 日本电产三协株式会社 |
主分类号: | G11B7/135 | 分类号: | G11B7/135;G11B7/125 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 装置 | ||
1.一种光学头装置,至少具有激光光源;以及将从该激光光源射出的激光聚焦在光记录介质上的物镜,其特征在于,
在从所述激光光源到所述光记录介质的光路上,配置有
从该激光光源射出的激光作为发散光斜向部分透过的平行平板状的半透明反射镜;以及
对聚焦在所述光记录介质上之前的所述激光透过该半透明反射镜时产生的像差进行校正的像差校正元件。
2.如权利要求1所述的光学头装置,其特征在于,
所述激光对于所述半透明反射镜的入射角设定为不到45°。
3.如权利要求2所述的光学头装置,其特征在于,
所述像差校正元件配置在从所述激光光源到所述半透明反射镜的光路上。
4.如权利要求3所述的光学头装置,其特征在于,具有:
射出第1激光的第1激光发光元件;以及
射出第2激光的第2激光发光元件,
在所述第1激光发光元件及所述第2激光发光元件中,所述第1激光发光元件是射出的激光作为发散光斜向透过所述半透明反射镜的所述激光光源,
所述半透明反射镜使所述第1激光部分透过,另外使所述第2激光部分反射或全反射,并合成所述第1激光及所述第2激光的到所述光记录介质的光路,
所述像差校正元件配置在从所述第1激光发光元件到所述半透明反射镜的光路上。
5.如权利要求4所述的光学头装置,其特征在于,
所述像差校正元件是复曲面透镜。
6.如权利要求5所述的光学头装置,其特征在于,
所述复曲面透镜还具有将从所述第1激光发光元件到所述光记录介质的放大率设定为规定值的放大率变换透镜的功能。
7.如权利要求4所述的光学头装置,其特征在于,
所述第1激光是波长为780nm频带的激光,所述第2激光是波长为650nm频带的激光。
8.如权利要求1所述的光学头装置,其特征在于,
所述像差校正元件是复曲面透镜及柱面透镜的任一种透镜。
9.如权利要求8所述的光学头装置,其特征在于,
所述复曲面透镜具有产生与所述激光透过所述半透明反射镜时产生的像差反向的像差的透镜面,使得在透过所述半透明反射镜时的所述像差被校正的状态下将所述激光聚焦在所述光记录介质上。
10.如权利要求9所述的光学头装置,其特征在于,
所述复曲面透镜在一面侧具有复曲面,同时在另一面侧具有凸面,利用所述复曲面及所述凸面的倾斜,产生与所述激光透过所述半透明反射镜时产生的彗差反向的彗差,利用所述复曲面的曲率半径的各向异性,产生与透过所述半透明反射镜时产生的像散反向的彗差,使得在透过所述半透明反射镜时的所述像差被校正的状态下将所述激光聚焦在所述光记录介质上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本电产三协株式会社,未经日本电产三协株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710148892.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:气体传感器及其制造方法
- 下一篇:对阻抗滞后元件的存储器矩阵的驱动