[发明专利]研磨装置及其定位方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种研磨装置及其定位方法，且特别是有关于一种用以定位上盘的研磨装置及其定位方法。

背景技术

传统的摆臂式研磨装置包括下盘、上盘、摆动源及转动源。上盘设置于下盘的上方。摆动源用以提供上盘一摆动动力，以使上盘可相对下盘摆动。转动源用以提供下盘一转动动力，以使下盘转动。当上盘摆动且下盘转动时，上盘通过其与下盘的摩擦力以相对于下盘转动。如此一来，若基板吸附在上盘且面对下盘，则此基板利用上述所提及的上盘及下盘的相对运动进行研磨。当基板的厚度研磨至预定值时，上盘及下盘则分别停止作动，并以人工方式取出基板。

以人工方式取出基板为目前普遍的方式，然而随着自动化产业的发展，取出基板的动作可利用例如是机械手臂完成。由于机械手臂取出基板的位置是为固定的，因上盘停止的位置成为机械手臂是否可准确地取出基板的关键。然而，就上盘的摆动部分而言，当上盘停止摆动时，上盘会位于开始摆动前的位置。举例而言，请参照图1A，其绘示传统的摆臂式研磨装置的上盘于摆臂前的上视图。摆臂式研磨装置100的一上盘113于摆动前位于如图1A所示的位置，并非位于一对准位置P1。因此，当上盘113摆动后再停止时也会位于如图1A所示的位置。如此一来，吸附于上盘113的一基板112无法位于一预定位置P2，因此机械手臂(未绘示)无法自预定位置P2处取出基板112。

此外，请同时参照图1B，其绘示图1A的上盘位于对准位置时的上视图。就上盘113的转动部分而言，上盘113停止摆动后，由于惯性力的缘故，上盘会短暂地持续转动。然而，即便上盘113于停止摆动时可位于对准位置P1(如图1B所示)，但上盘113必须藉由上盘113与下盘111之间摩擦力才可停止转动。因此，上盘113停止转动时的位置仍无法准确地掌握。如此一来，基板112最终的位置亦可能如图1B所示无法位于预定位置P2。也就是说，在图1B的情况下，机械手臂依旧无法准确地取出基板112。

综上所述，由于传统的摆臂式研磨装置的上盘最终的停止的位置是无法准确地掌握，因此基板也无法位于预定位置。此时，若要结合摆臂式研磨装置及例如是机械手臂的自动化设备是有困难的。

发明内容

本发明有关于一种研磨装置及其定位方法，其提供上盘的定位机制，以使得吸附于上盘的基板准确地定位。如此一来，本发明可与自动化设备结合，以降低制造成本并且提升产业竞争力。

根据本发明的第一方面，提出一种研磨装置。研磨装置包括下盘、上盘、摆动检测模块及一动动力源。上盘对应设置于下盘的上方。摆动检测模块对应上盘设置，以侦测上盘的位置。摆动动力源与上盘电性连接，用以根据上盘的位置控制上盘的摆动。

根据本发明的第二方面，提出一种研磨装置。研磨装置包括下盘、上盘、转动检测模块及转动动力源。上盘对应设置于下盘的上方。转动检测模块对应上盘设置，以侦测上盘的位置。转动动力源与下盘电性连接，以根据上盘的位置控制下盘的转动。

根据本发明的第三方面，提出一种研磨装置。研磨装置包括下盘、上盘及插销。上盘对应设置于下盘的上方。上盘具有孔洞，孔洞位于上盘的上部。插销对应孔洞设置。当上盘上升至一抬起位置，插销插入孔洞内，以使上盘停止转动并定位于一取片位置。

根据本发明的第四方面，提出一种研磨装置。研磨装置包括下盘、上盘、第一减速检测模块及转动动力源。上盘对应设置于下盘的上方。第一减速检测模块对应上盘设置，以侦测上盘的位置。转动动力源与下盘电性连接，以根据上盘的位置控制下盘的转动速度。

根据本发明的第五方面，提出一种研磨装置的定位方法。研磨装置包括上盘及下盘。定位方法包括：首先，驱动上盘相对于下盘摆动。接着，侦测上盘的位置是否位于一摆动检测位置。然后，若上盘的位置位于摆动检测位置，则控制上盘停止摆动，并定位于一预定停止摆动位置。

根据本发明的第六方面，提出一种研磨装置的定位方法。研磨装置包括上盘及下盘。定位方法包括：首先，驱动下盘转动，以使上盘相对于下盘转动。接着，侦测上盘的位置是否位于一转动检测位置。然后，若上盘的位置位于转动检测位置，则控制下盘停止转动，使得上盘对应地停止转动，并定位于一预定停止转动位置。

根据本发明的第七方面，提出一种研磨装置的定位方法。研磨装置包括上盘及下盘。定位方法包括：首先，驱动下盘转动，以使上盘相对于下盘转动。接着，侦测上盘的位置是否位于第一减速检测位置。然后，若上盘的位置位于第一减速检测位置，则控制下盘减速，使得上盘对应地减速。