[发明专利]高频高介陶瓷介质及其制备方法

权利要求书

1.一种高频高介陶瓷介质，其特征在于，由下列组分按原料重量百分比组成：

BZH玻璃粉9～31％，BNT陶瓷介质熔块69～91％；所述BZH玻璃粉的组分及其原料重量百分比含量为BaO 32～33％、ZnO 26～27％、H₃BO₄ 40.5～41％；所述BNT陶瓷介质熔块的组分及其原料重量百分比含量为BaCO₃ 18.4～19.8％、Nd₂O₃ 7.3～27.6％、Bi₂O₃ 16.4～40.6％、TiO₂33.7～36.2％。

2.根据权利要求1所述的高频高介陶瓷介质，其特征在于，由下列组分按原料重量百分比组成：BZH玻璃粉20～25％，BNT陶瓷介质熔块75～79％；所述BZH玻璃粉的组分及其原料重量百分比含量为BaO 32.5～33％、ZnO 26.5～27％、H₃BO₄ 40.7～41％；所述BNT陶瓷介质熔块的组分及其原料重量百分比含量为BaCO₃ 19.5～19.8％、Nd₂O₃ 19.5～20％、Bi₂O₃ 26～26.5％、TiO₂ 34.5～35％。

3.根据权利要求1所述的高频高介陶瓷介质，其特征在于，由下列组分按原料重量百分比组成：BZH玻璃粉23％，BNT陶瓷介质熔块77％；所述BZH玻璃粉的组分及其原料重量百分比含量为BaO 32.6％、ZnO 26.5％、H₃BO₄ 40.9％；所述BNT陶瓷介质熔块的组分及其原料重量百分比含量为BaCO₃ 19.5％、Nd₂O₃ 19.6％、Bi₂O₃ 26.1％、TiO₂ 34.8％。

4.权利要求1的高频高介陶瓷介质的制备方法，其特征在于，步骤如下：

(1)制作BZH玻璃粉：

按原料重量百分比配料，BaO 32～33％、ZnO 26～27％、H₃BO₄ 40.5～41％；用氧化锆球加去离子水混合球磨4.5～8小时，然后于120℃干燥，过250孔/cm²分样筛，粉末用坩锅盛放，于电炉中高温熔炼，熔炼温度为1050～1150℃，用淬冷法制得玻璃渣；将玻璃渣置于球磨机中球磨20～30小时，再于120干燥，过250孔/cm²分样筛，制得BZH玻璃粉；

(2)制作BaO-Nd₂O₃-TiO₂系统BNT陶瓷介质熔块：

按原料重量百分比配料，BaCO₃ 18.4～19.8％、Nd₂O₃ 7.3～27.6％、Bi₂O₃ 16.4～40.6％、TiO₂33.7～36.2％，用氧化锆球加去离子水混合球磨6～10小时，然后于120℃干燥，过250孔/cm²分样筛，再放入烧结炉中预烧，预烧温度为1110～1150℃，保温1～3小时，制得BNT陶瓷介质熔块；

(3)制作BaO-Nd₂O₃-TiO₂系统陶瓷介质：

将上述BNT熔块与BZH玻璃粉按其按重量百分比配料，BNT熔块69～91％，BZH玻璃粉9～31％，用氧化锆球加去离子水球磨6～12小时，然后于120℃干燥，过250孔/cm²分样筛，加入6～7wt％石蜡造粒，在80～90Mpa压强下压制成圆片生坯，最后放入烧结炉中烧成，烧成温度为860～900℃，冷却后制得陶瓷介质。

5.根据权利要求4的高频高介陶瓷介质的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)的预烧温度的升温速率为，按10℃/min的升温速率加热至1110～1150℃。

6.根据权利要求4的高频高介陶瓷介质的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)的烧成温度的升温速率为，先按3℃/min的加热至500℃，再按3～4℃/min加热至860～900℃，保温0.5～2小时。