[发明专利]液晶显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710152440.9 申请日: 2007-10-12
公开(公告)号: CN101162306A 公开(公告)日: 2008-04-16
发明(设计)人: 石垣利昌;西泽昌纮;高桥文雄 申请(专利权)人: 株式会社日立显示器
主分类号: G02F1/133 分类号: G02F1/133;G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/027;H01L21/00;G03F7/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 季向冈
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种液晶显示装置,以矩阵状排列了多个在像素内具有反射区域的像素,其特征在于:

上述反射区域具有在有机绝缘膜材料中含有具有与该有机绝缘膜材料的折射率同等的折射率的粒子的有机绝缘膜,

上述粒子的直径比上述有机绝缘膜的膜厚大而形成有凹凸面;

还具有由仿照上述凹凸面的表面形状而成膜的金属膜所形成的漫反射电极。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置,其特征在于:

在上述像素内具有上述反射区域,并且具有透射区域。

3.根据权利要求2所述的液晶显示装置,其特征在于:

上述反射区域的含有上述粒子的上述有机绝缘膜延伸到上述透射区域和上述反射区域的边界区域,

上述边界区域的上述有机绝缘膜的膜厚比上述粒子的直径大。

4.根据权利要求2所述的液晶显示装置,其特征在于:

上述反射区域的池间隙和上述透射区域的池间隙之比为1∶2。

5.一种液晶显示装置的制造方法,该液晶显示装置具有形成有薄膜晶体管和像素电极的第一基板、和与上述第一基板相对的第二基板,以矩阵状排列了多个在像素内具有反射区域的像素,其特征在于,包括:

有机绝缘膜形成步骤,在上述第一基板的内面上涂敷向有机绝缘树脂材料中混合了粒子的有机绝缘膜材料,然后进行干燥,形成有机绝缘膜;

曝光显影步骤,通过具有半色调曝光狭缝的曝光掩模,使上述半色调曝光狭缝与上述反射区域相对应,对上述有机绝缘膜进行曝光,然后进行显影,对基于上述半色调曝光狭缝的半色调曝光部的上述有机绝缘膜进行减膜,使上述粒子的一部分露出;

对上述有机绝缘膜烧结使其固化的有机绝缘膜固化步骤;以及

漫反射层形成步骤,在固化后的上述有机绝缘膜的上层成膜金属薄膜,形成具有仿照了由上述粒子的露出所形成的凹凸面的凹凸面的漫反射层。

6.一种液晶显示装置的制造方法,该液晶显示装置具有形成有薄膜晶体管和像素电极的第一基板、和与上述第一基板相对的第二基板,以矩阵状排列了多个在像素内具有透射区域和反射区域的像素,其特征在于,包括:

有机绝缘膜形成步骤,在上述第一基板的内面上涂敷向有机绝缘树脂材料中混合了粒子的有机绝缘膜材料,然后进行干燥,形成有机绝缘膜;

曝光显影步骤,通过具有开口和半色调曝光狭缝的曝光掩模,使上述开口与上述透射区域相对应,且使上述半色调曝光狭缝与上述反射区域相对应,对上述有机绝缘膜进行曝光,然后进行显影,除去基于上述开口的曝光部的上述有机绝缘膜,并且对基于上述半色调曝光狭缝的半色调曝光部的上述有机绝缘膜进行减膜,使上述粒子的一部分露出;

对上述有机绝缘膜烧结并使其固化的有机绝缘膜固化步骤;以及

漫反射层形成步骤,在固化后的上述有机绝缘膜的上层成膜金属薄膜,形成具有仿照了由上述粒子的露出所形成的凹凸面的凹凸面的漫反射层。

7.根据权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于:

在上述曝光步骤的半色调曝光中,通过显影,将上述有机绝缘膜的膜厚除去相当于上述粒子的直径的50%。

8.根据权利要求6所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于:

在上述曝光步骤的半色调曝光中,通过显影,将上述有机绝缘膜的膜厚除去相当于上述粒子的直径的50%。

9.根据权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于:

用上述有机绝缘膜材料的上述有机绝缘树脂材料与上述粒子的混合比来调整上述漫反射层的凹凸的排列间距。

10.根据权利要求6所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于:

用上述有机绝缘膜材料的上述有机绝缘树脂材料与上述粒子的混合比来调整上述漫反射层的凹凸的排列间距。

11.根据权利要求5所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于:

上述有机绝缘树脂材料是向丙烯酸类树脂、环氧树脂、烯烃类树脂、酚醛树脂的任一个中混合了重氮萘醌作为感光剂的材料,或者是向上述有机绝缘树脂材料中混合了光产酸剂的材料。

12.根据权利要求6所述的液晶显示装置的制造方法,其特征在于:

上述有机绝缘树脂材料是向丙烯酸类树脂、环氧树脂、烯烃类树脂、酚醛树脂的任一个中混合了重氮萘醌作为感光剂的材料,或者是向上述有机绝缘树脂材料中混合了光产酸剂的材料。

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