[发明专利]垂直磁记录介质有效
申请号: | 200710152990.0 | 申请日: | 2007-10-11 |
公开(公告)号: | CN101162587A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | 竹野人俊司;酒井泰志 | 申请(专利权)人: | 富士电机电子技术株式会社 |
主分类号: | G11B5/66 | 分类号: | G11B5/66;G11B5/64 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 范征 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 垂直 记录 介质 | ||
1.一种垂直磁记录介质,该介质通过在非磁性基板上依次层加以下各层形成:软磁背衬层、第一底层、第一非磁性中间层、第二底层、第二非磁性中间层、磁记录层、保护膜和液体润滑剂层,其中所述第一底层包含具有fcc结构且至少包含Ni和Fe的软磁材料,所述第二底层包含具有fcc结构且至少包含Co的软磁材料。
2.如权利要求1所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第一底层包含30原子%以上88原子%以下的Ni、0.1原子%以上22原子%以下的Fe。
3.如权利要求1或2所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第一底层还包含一种或多种选自Co、Si、B、Nb、N、Ta、Al、Pd、Cr和Mo的材料。
4.如权利要求1至3中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第一非磁性中间层包含选自V、Cr、Cu、Nb、Mo、Ru、Rh、Ta、W、Re、Ir的金属,或其主要组分是所述金属的合金。
5.如权利要求1至3中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第一非磁性中间层包含至少含有Co的非磁性合金。
6.如权利要求1至4中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第一非磁性中间层的膜厚度为0.1纳米以上2纳米以下。
7.如权利要求1、2、3或5所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第一非磁性中间层的膜厚度为3纳米以上15纳米以下。
8.如权利要求1至7中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第二底层还包含一种或多种选自下组的材料:Fe、B、Al、Zr、Mg和Si。
9.如权利要求8所述的垂直磁记录介质,其特征在于,以组成所述第二底层的原子总数作为基准,所述第二底层包含10原子%以下的Fe、50原子%以下的B、40原子%以下的Al、15原子%以下的Zr、52原子%以下的Mg、或者33原子%以下的Si。
10.如权利要求1至9中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第二底层还包含一种选自O和N的材料。
11.如权利要求1至10中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第二非磁性中间层包含Ru或Ru基合金。
12.如权利要求1至11中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述第二非磁性中间层的膜厚度为0.1纳米以上20纳米以下。
13.如权利要求1至12中任一项所述的垂直磁记录介质,其特征在于,所述磁记录层包含具有粒状结构的材料,其中磁性晶粒分散在非磁性氧化物或非磁性氮化物基质中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士电机电子技术株式会社,未经富士电机电子技术株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710152990.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。