[发明专利]电光装置、图像形成装置无效

专利信息
申请号: 200710153299.4 申请日: 2007-09-29
公开(公告)号: CN101153696A 公开(公告)日: 2008-04-02
发明(设计)人: 五味二夫 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: F21V5/04 分类号: F21V5/04;F21V8/00;G03G15/043;G03G15/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电光 装置 图像 形成
【权利要求书】:

1.一种电光装置,具有:在基板上的一个方向排列多个发光元件的光源阵列;将来自所述发光元件的出射光在像担持体成像的透镜元件在所述一个方向上排列多个的透镜阵列;和按照在所述光源阵列与所述透镜阵列之间与所述光源阵列和所述透镜阵列接触的方式配置的第一光透过构件和第二光透过构件,

所述第一光透过构件和所述第二光透过构件在所述一个方向上连接配置;

所述第一光透过构件与所述第二光透过构件在弹性模量、折射率、光透过率中至少一个不同。

2.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于:

所述第一光透过构件的弹性模量比所述第二光透过构件的弹性模量低,所述第一光透过构件的面积比所述第二光透过构件的面积大。

3.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于:

所述第一光透过构件的折射率比所述第二光透过构件的折射率高,从所述发光元件出射的出射光中,透过所述第一光透过构件并且通过所述透镜阵列在所述像担持体成像的光的成像半径与透过所述第二光透过构件并且通过所述透镜阵列在所述像担持体成像的光的成像半径大致相等。

4.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于:

所述第一光透过构件的光透过率比所述第二光透过构件的光透过率高,从所述发光元件出射的出射光中,透过所述第一光透过构件并且从所述透镜阵列出射的光的明亮度与透过所述第二光透过构件并且从所述透镜阵列出射的光的明亮度大致相等。

5.根据权利要求1所述的电光装置,其特征在于:

所述第一光透过构件和所述第二光透过构件是粘结剂。

6.一种电光装置,具有:在基板上的一个方向排列多个发光元件的光源阵列;将来自所述发光元件的出射光在像担持体成像的透镜元件在所述一个方向上排列多个的透镜阵列;配置在所述光源阵列与所述透镜阵列之间的第一光透过构件;按照在所述光源阵列与所述第一光透过构件之间与所述光源阵列和所述第一光透过构件接触的方式配置的第二光透过构件和第三光透过构件;和按照在所述第一光透过构件与所述透镜阵列之间与所述第一光透过构件和透镜阵列接触的方式配置的第四光透过构件,

所述第二光透过构件和所述第三光透过构件在所述一个方向上连接配置;

所述第二光透过构件与所述第三光透过构件在弹性模量、折射率、光透过率中至少一个不同。

7.根据权利要求6所述的电光装置,其特征在于:

所述第二光透过构件的弹性模量比所述第三光透过构件的弹性模量低,所述第二光透过构件的面积比所述第三光透过构件的面积大。

8.根据权利要求6所述的电光装置,其特征在于:

所述第二光透过构件的折射率比所述第三光透过构件的折射率高,从所述发光元件出射的出射光中,透过所述第二光透过构件并且通过所述透镜阵列在所述像担持体成像的光的成像半径与透过所述第三光透过构件并且通过所述透镜阵列在所述像担持体成像的光的成像半径大致相等。

9.根据权利要求6所述的电光装置,其特征在于:

所述第二光透过构件的光透过率比所述第三光透过构件的光透过率高,从所述发光元件出射的出射光中,透过所述第二光透过构件并且从所述透镜阵列出射的光的明亮度与透过所述第三光透过构件并且从所述透镜阵列出射的光的明亮度大致相等。

10.根据权利要求6所述的电光装置,其特征在于:

所述第一光透过构件是玻璃或塑料,所述第二光透过构件、所述第三光透过构件和所述第四光透过构件是粘结剂。

11.一种图像形成装置,具有:

像担持体;

使所述像担持体带电的带电器;

将从所述光源阵列前进并且透过所述透镜阵列的光向所述像担持体的已带电的面照射,来形成潜像的权利要求1所述的电光装置;

在所述潜像附着色剂,从而在所述像担持体形成可见像的显影器;和

从所述像担持体将所述可见像转印到其他物体的转印器。

12.一种图像形成装置,具有:

像担持体;

使所述像担持体带电的带电器;

将从所述光源阵列前进并且透过所述透镜阵列的光向所述像担持体的已带电的面照射,来形成潜像的权利要求6所述的电光装置;

在所述潜像上附着色剂,从而在所述像担持体形成可见像的显影器;和

从所述像担持体将所述可见像转印到其他物体的转印器。

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