[发明专利]掩模坯板和掩模有效
| 申请号： | 200710153319.8 | 申请日： | 2007-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101144972A | 公开（公告）日： | 2008-03-19 |
| 发明（设计）人： | 桥本雅广;榎本智之;坂口崇洋;坂本力丸;永井雅规 | 申请（专利权）人： | 豪雅株式会社;日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩模坯板 | ||
1.一种掩模坯板，具有在基板上成膜的用于形成掩模图案的薄膜、和在该薄膜上方成膜的化学放大型抗蚀剂膜，其特征在于，
在上述薄膜和抗蚀剂膜之间具有阻止妨害上述抗蚀剂膜的化学放大机能的物质从抗蚀剂膜的底部向抗蚀剂膜内的移动的保护膜。
2.一种掩模坯板，具有在基板上成膜的用于形成掩模图案的薄膜、和在该薄膜的上方成膜的化学放大型的抗蚀剂膜，其特征在于，
在上述薄膜和上述抗蚀剂膜之间具有膜厚为2nm以上、膜密度为1.4g/cm3以上的树脂膜，另外，上述膜密度是通过X射线反射法，即掠入射X射线反射技术GXIR求出的膜密度。
3.如权利要求2所述的掩模坯板，其特征在于，通过上述树脂膜阻止妨害上述抗蚀剂膜的化学放大机能的物质从抗蚀剂膜的底部向抗蚀剂膜内的移动。
4.如权利要求2或3所述的掩模坯板，其特征在于，上述树脂膜构成为可在上述薄膜的构图处理中除去。
5.如权利要求1～4的任一项所述的掩模坯板，其特征在于，上述薄膜是金属膜。
6.如权利要求1～5的任一项所述的掩模坯板，其特征在于，上述薄膜是通过反应性溅射法成膜的膜。
7.如权利要求1～6的任一项所述的掩模坯板，其特征在于，上述掩模坯板是形成上述化学放大型抗蚀剂膜前的掩模坯板。
8.一种转印掩模，其特征在于，对权利要求1～7的任一项所述的掩模坯板上的上述薄膜进行构图，从而在基板上形成转印图案。
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