[发明专利]有透明导电镍酸锂底电极的外延铌酸锶钡薄膜及制备方法无效

专利信息
申请号: 200710156478.3 申请日: 2007-11-01
公开(公告)号: CN101169524A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 杜丕一;李晓婷;麦炽良;黄健洪;翁文剑;韩高荣;赵高凌;沈鸽;徐刚;张溪文 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02F1/035 分类号: G02F1/035;G02F1/03
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 林怀禹
地址: 310027浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 透明 导电 镍酸锂底 电极 外延 铌酸锶钡 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有透明导电镍酸锂底电极的外延铌酸锶钡薄膜,其特征在于:

在MgO基板(1)一面外延沉积LNO镍酸锂透明导电层LNO薄膜(2),再在LNO薄膜(2)上外延制备SBN薄膜(3)。

2.根据权利要求1所述的一种具有透明导电镍酸锂底电极的外延铌酸锶钡薄膜,其特征在于:所述的LNO薄膜(2)的透过率在30%~60%,电导率介于2×10-3~3×10-3Ωm。

3.一种具有透明导电镍酸锂底电极的外延铌酸锶钡薄膜的制备方法,其特征在于该方法的步骤如下:

1)以碳酸锂和氧化镍为原料,按质量百分含量为10%~20%的碳酸锂与80%~90%的氧化镍混合后,研磨3~5小时,以压力为2~10MPa压制成型,并在空气中烧结,烧结温度范围为800~900℃,升温速率控制范围为100~600℃/h,保温时间控制在1~3h,降到室温后得到镍酸锂靶材;

2)以碳酸锶、碳酸钡和氧化铌为原料,按质量百分含量为25%~30%的碳酸锶,与10%~30%的碳酸钡与45%~60%氧化铌混合后,研磨3~5小时,以压力为2~10MPa压制成型,并在空气中烧结,烧结温度范围为900~1100℃,升温速率控制范围为100~600℃/h,保温时间控制在1~3h,降到室温后得到铌酸锶钡靶材;

4)采用上述已制备的镍酸锂靶材,利用脉冲激光沉积法,在(001)MgO基板上外延沉积镍酸锂薄膜,沉积温度范围为500~600℃;

5)采用已制备的铌酸锶钡靶材,利用脉冲激光沉积法,在外延沉积有镍酸锂电极层的(001)MgO基板上继续外延沉积铌酸锶钡薄膜,沉积温度范围为800~1000℃。

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