[发明专利]一种铝合金表面处理方法无效
申请号: | 200710156874.6 | 申请日: | 2007-11-15 |
公开(公告)号: | CN101161857A | 公开(公告)日: | 2008-04-16 |
发明(设计)人: | 杜平凡;徐敏;席珍强;姚剑 | 申请(专利权)人: | 浙江理工大学 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/52;C23C16/02 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人: | 林怀禹 |
地址: | 310018浙江省杭州市江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铝合金 表面 处理 方法 | ||
【权利要求书】:
1.一种铝合金表面处理方法,其特征在于:先对铝合金表面抛光,清洗,然后采用有机溶剂,酒精超声清洗后,在普通铝合金基底上采用PECVD法沉积一层氮化硅薄膜,沉积过程采用的参数,温度为100~500℃,射频功率为20~150W,沉积时间为5~60min,SiH4/NH3流量比为4∶1~1∶30。
2.根据权利要求1所述的一种铝合金表面处理方法,其特征在于:所沉积氮化硅薄膜厚度随沉积参数的变化而变化,从而在铝合金表面显示出不同的颜色。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的