[发明专利]微结构体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200710160319.0 申请日: 2007-12-19
公开(公告)号: CN101255588A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 畠中优介;堀田吉则 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C25D11/04 分类号: C25D11/04;C25D11/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 微结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1. 一种制备微结构体的方法,其中对铝衬底依次进行以下步骤:

(1)对铝衬底的表面进行第一阳极化处理,以在铝衬底的表面上形成具有微孔的阳极化膜的步骤;

(2)使用酸或碱部分地溶解所述阳极化膜的步骤;

(3)进行第二阳极化处理,以使所述微孔在它们的深度方向上生长的步骤;和

(4)除去在所述微孔横截面中的拐点之上的部分阳极化膜的步骤,从而得到具有形成在所述阳极化膜的表面上的微孔的微结构体。

2. 按照权利要求1所述的制备方法,其中将所述步骤(3)和(4)以此顺序重复进行两次或更多次。

3. 按照权利要求1所述的制备方法,其中,在所述步骤(4)中,使用酸或碱将所述阳极化膜溶解和除去。

4. 按照权利要求2所述的制备方法,其中,在所述步骤(4)中,使用酸或碱将所述阳极化膜溶解并且除去。

5. 一种通过按照权利要求1所述的制备方法得到的微结构体。

6. 一种通过按照权利要求2所述的制备方法得到的微结构体。

7. 按照权利要求5所述的微结构体,其中如由式(1)定义的微孔的有序度至少为50%:

有序度(%)=B/A×100            (1)

(其中,A表示在测量区域中的微孔的总数;和B表示:在测量区域中,在绘制圆使得该圆的圆心位于特定微孔的重心且使得所述圆具有与另一个微孔的边缘相内切的最小半径时,所述圆包括除了所述特定微孔以外的六个微孔的重心的情况下,特定微孔的数目)。

8. 按照权利要求6所述的微结构体,其中如由式(1)定义的微孔的有序度至少为50%:

有序度(%)=B/A×100            (1)

(其中,A表示在测量区域中的微孔的总数;和B表示:在测量区域中,在绘制圆使得该圆的圆心位于特定微孔的重心且使得所述圆具有与另一个微孔的边缘相内切的最小半径时,所述圆包括除了所述特定微孔以外的六个微孔的重心的情况下,特定微孔的数目)。

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