[发明专利]显影处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及显影处理装置，特别涉及适用于具有将在显影处理中产生的浮沫(scum)从显影液中除去的功能的显影处理装置的有效的技术。

背景技术

日本特开2006-301024号公报中公开了下述技术，浮沫在储存于显影液储存槽内的显影液的表面上浮起，通过相对附着有该浮沫的泡，从多个喷射嘴喷出显影液，将附着有浮沫的泡从显影液储存槽内除去并排出。根据该技术，浮沫不会累积在显影液储存槽的侧壁上，能够容易地进行浮沫的处理。

日本特开2006-251278号公报中记述了每当在形成有潜像的基板进行图案形成时，有效地回收使用于显影后的污浊了的显影液中的不溶物的技术。具体而言，记述了使在显影液中悬浮的不溶物附着在泡上，将附着有不溶物的泡由输送机(conveyor)排出到外部的技术。

例如，在等离子体显示器的制造工序中，常使用利用光刻技术的图案形成(patterning)工序。作为利用光刻技术的图案形成工序，有形成等离子体显示器的电极的电极形成工序。该电极形成工序中，在使用干膜、液状的抗蚀膜形成期望的电极图案后，由蚀刻等形成电极。具体而言，在形成干膜、抗蚀膜(レジスト膜)后，隔着掩膜进行曝光处理。然后，通过使用显影液进行显影处理，形成期望的图案。在对干膜、负型(ネガ型)抗蚀膜进行显影时，使用碳酸钠等碱性溶液。在该显影处理时，干膜、抗蚀膜中所包含的非水溶性的触媒剂(開始剤)产生为浮沫。所谓浮沫为不溶性的反应生成物(异物)。

通过从存储有显影液的罐(tank)中取出显影液，并向对象物赋予显影液，而进行显影处理。然后，使显影处理后的显影液再次回到罐中。此时，罐中被放回包含浮沫的显影液。因此，当反复进行显影处理时，在显影液中累积浮沫。当在显影液中累积有浮沫时，利用包含浮沫的显影液进行对象物的显影处理。因为浮沫为异物，所以在对象物上附着作为异物的浮沫，妨碍正常的图案形成。因此，由过滤器等除去显影液中包含的浮沫。

但是，在使用过滤器除去浮沫的情况下必须更换过滤器。即，因为每过一定期间必须更换过滤器，所以存在不仅必须进行维护，而且运行成本(running cost)变高的问题。

具有如日本特开2006-301024号公报或日本特开2006-251278号公报中所记载的，考虑到浮沫容易附着在气泡上的性质，从罐中强制除去浮沫的技术。例如，在日本特开2006-301024号公报中，通过使用喷射嘴向附着有浮沫的泡喷射显影液，强制除去包含浮沫的泡。此外，在日本特开2006-251278号公报中，通过产生气泡，使浮沫附着在气泡上，由输送机强制地将附着有浮沫的泡排出到罐的外部。根据这些技术，因为不使用过滤器，所以具有不需进行维护，能够减少运行成本的优点。但是，必须具有用于从罐中除去浮沫的喷射嘴或输送机等的强制排出单元。即，必须在储存显影液的罐设置强制排出单元，存在设备投资成本上升的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种显影处理装置，根据该显影处理装置能够降低运行成本，且能够减少设备投资成本。

通过本说明书的记述和附图，本发明的上述目的以及其他目的和新的特征可以变得更加明确。

对本申请所公开的发明中的有代表性的内容的概要进行简单说明，如下所述。

本发明的显影处理装置具有以下特征：(a)包括储存显影液的显影罐，上述显影罐具备：(a1)显影液流入部，其将通过进行显影处理而排出的包含浮沫和泡的显影液流入上述显影罐；(a2)泡累积部，使得从上述显影液流入部流入的上述显影液中包含的上述泡，即包含上述浮沫的上述泡的产生速度比上述泡的消失速度大，将上述泡累积在上述显影罐内；(a3)浮沫除去部，其在上述泡累积部中累积的包含上述浮沫的上述泡刚刚从上述显影罐中自然溢出时将其汇集起来，从上述泡除去上述浮沫；和(a4)显影液排出部，为了将除去上述浮沫后的上述显影液使用于显影处理中而将其从上述显影罐中排出。

对通过本申请所公开的发明中的有代表性的内容所获得的效果进行简单的说明，如下所述。

根据本发明能够降低运行成本，并且能够减少设备投资成本。

附图说明

图1是表示本发明的第一实施例的等离子体显示装置的制造工序的流程图。

图2是表示使用抗蚀膜的光刻工序的流程图。

图3是表示使用干膜的光刻工序的流程图。

图4是表示第一实施例的显影处理装置的结构的图。

图5是表示第一实施例的显影处理装置的动作的流程图。