[发明专利]电压模式电流控制无效

专利信息
申请号: 200710163297.3 申请日: 2006-10-27
公开(公告)号: CN101168241A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 斯坦·D·蔡;雷克什曼·卡鲁比亚 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B49/10;H01L21/304
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国;梁挥
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 电压 模式 电流 控制
【权利要求书】:

1.一种电化学机械抛光的方法,包括:

引入衬底的导电薄膜与存在电解液的抛光表面接触;

在所述电解液和所述衬底之间施加初始电压;

测量通过所述导电薄膜的电流;

基于所测量的电流计算抛光速率;

比较所述抛光速率与目标抛光速率;

确定调整电压以使所述抛光速率更接近所述目标抛光速率;以及在所述电解液和所述衬底之间施加调整电压。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包含在确定调整电压之前确定是否需要调整电压。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,进一步包含在确定不需要调整电压之后等待一段时间间隔,并接着重复确定是否需要调整电压的步骤。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,每两到五秒执行测量通过所述导电薄膜的电流。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述测量电流、计算所述抛光速率、比较所述抛光速率、确定调整电压和施加所述调整电压的步骤仅在电化学机械抛光处理步骤的开始部分期间周期性重复,并且在电化学机械抛光处理步骤的后期部分期间不执行。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述测量电流、计算所述抛光速率、比较所述抛光速率、确定调整电压和施加所述调整电压的步骤仅在电化学机械抛光处理步骤的开始部分期间周期性重复,在整个所述电化学机械抛光步骤期间周期性地重复。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,确定调整电压的步骤包括所述电压依照预定量增加或减少电压。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包含确定所述初始电压的步骤。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,确定所述初始电压的步骤包括由所述目标电压计算初始电流,以及由所述初始电流和电流-电压曲线计算所述初始电压。

10.一种计算机程序产品,其有形地存储在机器可读的媒质中,该产品包括使衬底处理台实施以下的指令:

使衬底的导电薄膜与存在电解液的抛光表面接触;

在所述电解液和所述衬底之间施加初始电压;

测量通过所述导电薄膜的电流;

基于所测量的电流计算抛光速率;

比较所述抛光速率与目标抛光速率;

确定调整电压以使所述抛光速率更接近所述目标抛光速率;以及在所述电解液和所述衬底之间施加调整电压。

11.根据权利要求10所述的产品,其特征在于,进一步包含指令用于在确定调整电压之前确定是否需要调整电压。

12.根据权利要求10所述的产品,其特征在于,进一步包含指令用于在确定不需要调整所述电压之后等待一段时间间隔,并且之后重复确定是否需要调整电压的步骤。

13.根据权利要求10所述的产品,其特征在于,每两到五秒执行测量通过所述导电薄膜的电流。

14.根据权利要求10所述的产品,其特征在于,进一步包含指令用于仅在电化学机械抛光处理步骤的开始部分期间周期性重复测量电流、计算所述抛光速率、比较所述抛光速率、确定调整电压和施加所述调整电压的步骤,并且在电化学机械抛光处理步骤的后期部分期间不执行上述步骤。

15.根据权利要求10所述的产品,其特征在于,进一步包含指令用于在整个所述电化学机械抛光步骤期间周期性地重复测量电流、计算所述抛光速率、比较所述抛光速率、确定调整电压和施加所述调整电压的步骤。

16.根据权利要求10所述的产品,其特征在于,确定调整电压的指令包括所述电压依照预定量增加或减少电压的指令。

17.根据权利要求10所述的产品,其特征在于,进一步包含确定所述初始电压的指令。

18.根据权利要求17所述的产品,其特征在于,确定所述初始电压的指令包括由所述目标电压计算初始电流,以及由所述初始电流和电流-电压曲线计算所述初始电压。

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