[发明专利]一种包括微弧氧化膜的铝合金及其制备方法

权利要求书

1.一种包括微弧氧化膜的铝合金，所述铝合金包括铝合金基体和铝合金基体表面的微弧氧化膜，其特征在于，所述铝合金还包括封孔物，所述封孔物位于所述微弧氧化膜上的微孔内和/或位于所述微弧氧化膜的表面，所述封孔物由封孔剂形成，所述封孔剂为格林陶瓷防污剂，所述格林陶瓷防污剂含有有机硅烷和硅氧烷在石油溶剂中的混合溶液，以格林陶瓷防污剂的总重量为基准，所述有机硅烷和硅氧烷的总含量为0.2-10重量％，所述石油溶剂的含量为80-99重量％，其中有机硅烷与硅氧烷的重量比为1∶0.01-100。

2.根据权利要求1所述的铝合金，其中，单位面积所述微弧氧化膜上封孔物的重量为0.001-1克/cm²。

3.根据权利要求1所述的铝合金，其中，所述微弧氧化膜上至少90％的微孔数量被封孔物覆盖。

4.根据权利要求1所述的铝合金，其中，在所述格林陶瓷防污剂中，有机硅烷与硅氧烷的重量比为1∶0.1-10。

5.根据权利要求1所述的铝合金，其中，微弧氧化膜的厚度为2-300微米。

6.一种权利要求1所述的包括微弧氧化膜的铝合金的制备方法，该方法包括在铝合金的表面上形成微弧氧化膜，其特征在于，该方法还包括在所述微弧氧化膜上的微孔中和/或表面上形成封孔物，所述封孔物的形成方法包括，在所述微弧氧化膜上涂覆封孔剂，然后干燥，使所述微弧氧化膜上至少90％的微孔数量被封孔物覆盖；所述封孔剂为格林陶瓷防污剂，所述格林陶瓷防污剂含有有机硅烷和硅氧烷在石油溶剂中的混合溶液，以格林陶瓷防污剂的总重量为基准，所述有机硅烷和硅氧烷的总含量为0.2-10重量％，所述石油溶剂的含量为80-99重量％，其中有机硅烷与硅氧烷的重量比为1∶0.01-100。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其中，所述在铝合金的表面上附着微弧氧化膜的方法包括，将铝合金置于盛有电解质溶液的电解槽中，以铝合金为阳极，电解槽作为阴极，微弧氧化的条件使铝合金表面形成厚为2-300微米的微弧氧化膜；所述微弧氧化的条件包括电流密度为0.5-10A/dm²，电压为400-600伏，电解质溶液的温度为15-60℃，微弧氧化的时间为2-60分钟。