[发明专利]一种相位掩膜板及其应用这种相位掩膜板的成像系统

权利要求书

1.一种相位掩膜板，其特征在于：所述的相位掩膜板的相位分布函数包含对数型和高次方型两种函数，函数式如下：

θphase=M{α1x2[log(|x|+β1)]}+Nα2|x|β2]]>

式中，M、N为对数型函数和高次方型函数的放大率；α₁、β₁为对数型函数的参数；α₂、β₂为高次方型函数的参数；x为归一化的径向坐标。

2.一种成像系统，其特征在于：由成像镜头、相位掩膜板、图像探测器、图像处理单元构成；所述的相位掩膜板的相位分布函数包含对数型和高次方型两种函数，函数式如下：

θphase=M{α1x2[log(|x|+β1)]}+Nα2|x|β2]]>

式中，M、N为对数型函数和高次方型函数的放大率；α₁、β₁为对数型函数的参数；α₂、β₂为高次方型函数的参数；x为归一化的径向坐标；

成像目标通过常规成像镜头和相位掩膜板后，在图像探测器上形成模糊的中间像，然后图像处理单元进行去卷积处理，最终得到聚焦清晰的图像。