[发明专利]干式清洁设备和干式清洁方法有效
申请号: | 200710164876.X | 申请日: | 2007-09-06 |
公开(公告)号: | CN101254502A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 冈本洋一;种子田裕介;渕上明弘;佐藤达哉 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | B08B1/00 | 分类号: | B08B1/00;B08B7/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王景刚;王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 设备 方法 | ||
技术领域
本发明一般地涉及一种成像装置,尤其涉及一种对用于成像装置中的组件进行干式清洁的技术。
背景技术
近来,办公机器如复印机、传真机和打印机的制造,已经开始积极地进行再生活动,以创造一个资源再生社会。这种再生活动包括从用户那里收集用过的产品,分解、清洁和重新组装产品,并且重新利用这些产品本身或这些产品的某些部件。就成像装置而言,如复印机、传真机和打印机,调色剂是很精细的粉末,通常不可避免地粘附到成像装置内部的零件上。当再生成像装置本身或其零件时,必须去除调色剂。
一些传统方法,如,湿式清洁方法,使用水或溶剂来去除调色剂,但是,在这种方法中,有一个问题是增加能量消耗、环境负担和由于处理包括调色剂的污水以及在清洁后干燥零件的而产生的成本。
一些其它传统方法,如,干式清洁方法,使用空气吹刮来去除调色剂。但是,由于对于清洁力不足以去除粘附力高的调色剂,所以必须进行使用布或类似物手工清除调色剂的额外处理。因此,在产品再利用/再生过程中,清洁处理是一个瓶颈。
还有一些其它传统的方法,如,喷抛清洁方法,对调色剂使用干冰。但是,这种方法具有高的运行成本,并且由于它们使用大量干冰,会带来大的环境负担。
为了消除上述问题,日本专利No.3288462公开了一种清洁附着在清洁目标对象(cleaning target object)上的灰尘的干式清洁设备。在该技术中,干式清洁设备在旋转容器中用弹性柔性接触元件搅动带电的清洁目标对象,从而中和清洁目标对象,使得灰尘的粘附力减弱,并且灰尘可以从清洁目标对象上清除。但是,很难清除有强粘附力的灰尘,因为对于接触元件和清洁目标对象之间的接触力,搅动是不够的。
此外,日本专利No.2889547公开了一种用于从清洁目标对象上清除粘附物的技术,通过喷出精细地切割为小球的颗粒或由铁、铝或不锈钢制做的金属棒来清洁目标对象。此外,日本专利No.3468995公开了一种喷净方法的技术,其通过向容器表面喷出包含粉碎固体粒子的高速空气来去除树脂制成的容器上的灰尘和污物,。
此外,已公开的日本专利申请No.2005-329292公开了一种从清洁目标对象上清除附着物的干式清洁方法。在该干式清洁方法中,吸附精细颗粒的微粒清洁介质被引入清洁目标对象容器,并且清洁喷嘴进入清洁对象容器的开口部分。高速空气喷入清洁目标容器,并且从清洁喷嘴排出来吹动清洁目标容器中的清洁介质。被吹动了的清洁介质清除粘附到清洁目标容器的内表面上的颗粒。接下来,在清洁喷嘴的端部,清洁介质和网眼部分碰撞,这样吸附在清洁介质上的精细颗粒被清除并被过滤,以使清洁介质的重复使用成为可能。再生的清洁介质再次被空气吹动以重复对清洁目标容器进行清洁。
但是,在日本专利No.3288462公开的干式清洁设备中,搅动对于接触元件和清洁目标对象之间的接触力而言是不足的。因此,很难清除具有强粘附力的灰尘。
此外,在日本专利No.2889547和No.3468995公开的喷净方法中,因为使用了小碎块或精细切割金属小球的微粒固体颗粒或金属棒,清洁目标对象的表面被刮擦和擦洗,所以在从清洁目标对象清洁灰尘的过程中使表面粗糙。因此,在不允许刮擦清洁目标对象时,喷净法不适用。
而且,在已公开的日本专利申请No.2005-329292所公开的清洁设备中,吹动清洁介质和通过吸附重复利用清洁介质的过程同时进行,这对小尺寸容器是有效的。但是,对于大尺寸清洁箱而言,其中清洁目标被引入并移动来进行清洁,由于用于吹动清洁介质的能量减弱,因此在清洁箱中的清洁介质有可能未被吹起而聚集从而导致清洁介质的流动停滞。因此,在大尺寸清洁箱中,很难充分地吹动并循环清洁介质,导致清洁能力下降。
发明内容
本发明的一个目的是至少部分地解决传统技术中的问题。
依据本发明的一个方面,提供一种干式清洁设备,包括循环空气产生单元,其在清洁箱中产生高速空气以便吹起存放于清洁箱中的柔性薄片状清洁介质;清洁介质加速单元,其加速在清洁箱中流动的清洁介质,使得清洁介质和清洁目标对象碰撞,从而分离粘附到清洁目标对象上的颗粒;以及清洁介质再生单元(cleaning-medium recycle unit),其抽吸从清洁目标对象上分离的颗粒并且再生清洁介质。
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