[发明专利]只读光学信息存储介质的记录设备有效
申请号: | 200710165030.8 | 申请日: | 2004-02-03 |
公开(公告)号: | CN101231854A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 李坰根 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G11B7/007 | 分类号: | G11B7/007 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;常桂珍 |
地址: | 韩国京畿道*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 只读 光学 信息 存储 介质 记录 设备 | ||
1.一种用于具有多个区的只读光学信息存储介质的记录设备,包括:
记录单元,用于将数据记录在所述多个区中;和
控制器,其:
控制记录单元将数据以第一凹坑图样的凹坑形式记录在所述多个区中的至少一个中,和
控制记录单元将数据以与第一凹坑图样不同的第二凹坑图样的凹坑形式记录在所述多个区的其它区中,
其中,所述多个区包括烧录区、导入区、用户数据区和导出区,形成在烧录区中的凹坑的图样与形成在导入区、用户数据区和导出区中的至少一个中的凹坑的图样不同。
2.如权利要求1所述的设备,其中,形成在烧录区中的凹坑的图样是第一直线凹坑行和第一凹坑摆动中的一个,形成在导入区和用户数据区中的至少一个中的凹坑的图样是与第一直线凹坑行不同的第二直线凹坑行和与第一凹坑摆动不同的第二凹坑摆动中的一个。
3.如权利要求2所述的设备,其中,第一直线凹坑行和第二直线凹坑行的每个具有以单一直线凹坑图样、特定直线凹坑图样或随机直线凹坑图样中的一个形成的凹坑。
4.如权利要求2所述的设备,其中,第一凹坑摆动和第二凹坑摆动的每个是单一凹坑摆动图样、特定凹坑摆动图样或随机凹坑摆动图样中的一个。
5.如权利要求2所述的设备,其中,烧录区、导入区、用户数据区和导出区中的至少一个被分为多个子区,其中,每个子区中的凹坑具有不同的凹坑图样。
6.如权利要求5所述的设备,其中,导入区包括第一和第二区,凹坑以第三直线凹坑图样和第三凹坑摆动图样中的一个形成在第一区中,凹坑以第四直线凹坑图样和第四凹坑摆动图样中的一个形成在第二区中。
7.如权利要求6所述的设备,其中,第三直线凹坑图样和第四直线凹坑图样的每个是单一直线凹坑图样、特定直线凹坑图样和随机直线凹坑图样中的一个。
8.如权利要求6所述的设备,其中,第三凹坑摆动和第四凹坑摆动的每个是单一凹坑摆动、特定凹坑摆动和随机凹坑摆动中的一个。
9.如权利要求2所述的设备,其中,用户数据区包括多个基本记录单元以及分别位于基本记录单元之前和之后的移入区和移出区。
10.如权利要求9所述的设备,其中,基本记录单元是物理簇、扇区、ECC块和帧中的一个。
11.如权利要求11所述的设备,其中,形成在基本记录单元中的凹坑的图样与形成在移入区和移出区中的凹坑的图样相同。
12.如权利要求9所述的设备,其中,形成在基本记录单元中的凹坑的图样与形成在移入区和移出区中的凹坑的图样不同。
13.如权利要求2所述的设备,其中,第一凹坑摆动和第二凹坑摆动中的每个是单一凹坑摆动图样、特定凹坑摆动图样和随机凹坑摆动图样中的一个。
14.如权利要求1所述的设备,其中,烧录区、导入区、用户数据区和导出区中的至少一个被分为多个子区,其中,在每个子区中的凹坑具有不同的凹坑图样。
15.如权利要求14所述的设备,其中,导入区包括第一区和第二区,凹坑以第三直线凹坑图样和第三凹坑摆动图样中的一个形成在第一区中,并且凹坑以第四直线凹坑图样和第四凹坑摆动图样中的一个形成在第二区中。
16.如权利要求15所述的设备,其中,第三直线凹坑图样和第四直线凹坑图样的每个是单一直线凹坑图样、特定直线凹坑图样和随机直线凹坑图样中的一个。
17.如权利要求16所述的设备,其中,第三凹坑摆动和第四凹坑摆动的每个是单一凹坑摆动、特定凹坑摆动或随机凹坑摆动中的一个。
18.如权利要求1所述的设备,其中,烧录区、导入区、用户数据区和导出区中的至少一个被分为多个子区,其中,每个子区中的凹坑具有不同的凹坑图样。
19.如权利要求18所述的设备,其中,导入区包括第一和第二区,凹坑以第三直线凹坑图样和第三凹坑摆动图样中的一个被记录在第一区中,并且凹坑以第四直线凹坑图样和第四凹坑摆动图样中的一个被记录在第二区中。
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