[发明专利]用于形成有机绝缘膜的光敏树脂组合物和使用该组合物的设备有效

专利信息
申请号: 200710166567.6 申请日: 2007-11-06
公开(公告)号: CN101200566A 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 金旻成;赵相元;申东珠;李吉成 申请(专利权)人: 第一毛织株式会社
主分类号: C08L33/00 分类号: C08L33/00;C08L39/04;C08F2/50;C08J5/18;G03F7/004
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 代理人: 周建秋;王凤桐
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 用于 形成 有机 绝缘 光敏 树脂 组合 使用 设备
【权利要求书】:

1.一种光敏树脂组合物,该光敏树脂组合物含有:

[A]碱溶性树脂;

[B]光活性化合物;和

[C]溶剂,

其中,所述碱溶性树脂[A]为含有至少一个具有氮丙啶基团的结构单元的共聚物。

2.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性树脂为含有由选自式1至6表示的含有氮丙啶基团的不饱和化合物中的至少一种化合物所衍生的结构单元的共聚物:

其中R1、R2和R3独立地为氢原子、C1-C10的烷基、C1-C10的烷氧基、苯基或苄基;

其中R1、R2和R3独立地为氢原子、C1-C15的烷基、C1-C15的烷氧基、苯基或苄基;

其中R1、R2、R3、R4、R5和R6独立地为氢原子、C1-C15的烷基、C1-C15的烷氧基、苯基或苄基;

其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7独立地为氢原子、C1-C15的烷基、C1-C15的烷氧基、苯基或苄基;

其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7独立地为氢原子、C1-C15的烷基、C1-C15的烷氧基、苯基或苄基;和

其中R1、R2、R3、R4、R5和R6独立地为氢原子、C1-C10的烷基、C1-C10的烷氧基、苯基或苄基。

3.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性树脂为含有由选自式7至12表示的含有氮丙啶基团的不饱和化合物中的至少一种化合物所衍生的结构单元的共聚物:

4.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性树脂为(a)至少一个含有氮丙啶基团的不饱和化合物,(b)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或它们的混合物,与(c)不饱和烯属化合物的共聚物。

5.根据权利要求4所述的光敏树脂组合物,其中,所述(b)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或它们的混合物包括丙烯酸、甲基丙烯酸、或它们的混合物。

6.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,以聚苯乙烯为基准,所述碱溶性树脂的重均分子量Mw为约3000-25000。

7.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性树脂含有约5-70重量%的衍生自(a)含有氮丙啶基团的不饱和化合物的结构单元,约30-80重量%的衍生自(b)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或它们的混合物的结构单元,以及约10-60重量%的衍生自(c)不饱和烯属化合物的结构单元。

8.根据权利要求1所述的光敏树脂组合物,其中,以100重量份的碱溶性树脂[A]为基准,所述光活性化合物[B]的含量为约5-80重量份。

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