[发明专利]用于去除沉积在工件上杂质的清洁装置有效

专利信息
申请号: 200710167401.6 申请日: 2007-10-23
公开(公告)号: CN101168156A 公开(公告)日: 2008-04-30
发明(设计)人: 市桥薫 申请(专利权)人: 株式会社滋贺山下
主分类号: B08B3/00 分类号: B08B3/00;B08B3/10
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 蒋旭荣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 去除 沉积 工件 杂质 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种清洁装置,其用于去除沉积在工件上的杂质,所述清洁装置包括:

清洁室,其上设置用于放入工件的开孔;

工件保持夹具,其布置在清洁室中;

驱动单元,用于通过伺服电机旋转驱动夹具,该驱动单元布置在清洁室外;

清洁喷嘴,其设置在清洁室内;以及

液体排放口,用于从清洁室中排放积累在清洁室中的清洁液体。

2.如权利要求1所述的清洁装置,其中伺服电机是数字控制的。

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