[发明专利]制备稀土永磁体材料的方法有效

专利信息
申请号: 200710167610.0 申请日: 2007-04-13
公开(公告)号: CN101158024A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 中村元;美浓轮武久;广田晃一 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C23C8/60 分类号: C23C8/60;C23C10/30;H01F1/053;C23F17/00;C22F1/16
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李帆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 制备 稀土 永磁体 材料 方法
【权利要求书】:

1.一种制备稀土永磁体材料的方法,包括如下步骤:

在R1-Fe-B组成的烧结磁体本体的表面布置粉末,其中R1为选自包括Sc和Y在内的稀土元素的至少一种元素,所述粉末包含至少30重量%的R2aTbMcAdHe合金,其中R2为选自包括Sc和Y在内的稀土元素的至少一种元素,T是铁和/或钴,M是选自Al、Cu、Zn、In、Si、P、S、Ti、V、Cr、Mn、Ni、Ga、Ge、Zr、Nb、Mo、Pd、Ag、Cd、Sn、Sb、Hf、Ta和W的至少一种元素,A是硼和/或碳,H是氢,且a到e表示基于合金的原子百分比,其范围是:15≤a≤80,0.1≤c≤15,0≤d≤30,0≤e≤(a×2.5),且余量为b,且所述粉末的平均颗粒尺寸小于或等于100μm,且

在真空或者惰性气体中、在低于或等于磁体本体烧结温度的温度下,热处理在其表面布置有粉末的磁体本体,以便吸收处理使得粉末中的R2和T、M和A中至少一种被吸收到磁体本体中。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,烧结磁体本体的最小部分的尺寸小于或等于20mm。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述粉末被布置在磁体本体表面,其数量对应于由磁体本体表面起距离小于或等于1mm的磁体本体周围空间内至少10体积%的平均填充系数。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述粉末含有至少1重量%的R3的氧化物、R4的氟化物和R5的氟氧化物中的至少一种,其中R3、R4和R5各为选自包括Sc和Y在内的稀土元素的至少一种元素,以使得R3、R4和R5中的至少一种被吸收到磁体本体中。

5.根据权利要求4所述的方法,其中,R3、R4和R5各含有至少10原子%的选自Nd、Pr、Dy和Tb中的至少一种元素。

6.根据权利要求1所述的方法,其还包括,在吸收处理后,在更低的温度下实现时效处理。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,R2含有至少10原子%的选自Nd、Pr、Dy和Tb的至少一种元素。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,在布置步骤,以分散在含水的或有机溶液中的浆料的形式供给粉末。

9.根据权利要求1所述的方法,其还包括,在布置步骤前,用选自碱、酸和有机溶剂的至少一种试剂进行磁体本体的洗涤。

10.根据权利要求1所述的方法,其还包括,在布置步骤前,对磁体本体进行喷砂以除去表面层。

11.根据权利要求1所述的方法,其还包括在吸收处理后或者时效处理后,用选自碱、酸和有机溶剂的至少一种试剂进行磁体本体的洗涤。

12.根据权利要求1所述的方法,其还包括在吸收处理或者时效处理后对磁体本体进行机械加工。

13.根据权利要求1所述的方法,其还包括在吸收处理后、在时效处理后、在时效处理之后的碱、酸或有机溶液洗涤步骤后或者时效处理之后的机械加工步骤后,进行磁体本体的镀覆或涂覆。

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