[发明专利]光信息记录介质以及对光信息记录介质的全息图形成方法无效

专利信息
申请号: 200710167656.2 申请日: 2007-09-07
公开(公告)号: CN101383167A 公开(公告)日: 2009-03-11
发明(设计)人: 小林智司 申请(专利权)人: 太阳诱电株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/0065
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 季向冈
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 信息 记录 介质 以及 对光 全息图 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种光信息记录介质,具有第一透光性基板、形成于该第一透光性基板的一个面上的记录层、以及形成于该记录层上的半透光反射层,可通过从上述第一透光性基板的另一个面的一侧对上述记录层照射激光来记录信息,其特征在于:

该光信息记录介质还具有

第二透光性基板,粘合在上述第一透光性基板的具有上述记录层和上述半透光反射层的一侧的面上;

发热层,形成于该第二透光性基板上,吸收激光后发热、变形;

反射层,形成于该发热层上,通过伴随该发热层的变形而产生变形,形成第一全息图的像素;以及

形成于该反射层上的变形层,

同时,在上述反射层至少具备由沿其厚度方向上预先形成的凹凸构成的第二全息图的像素。

2.根据权利要求1所述的光信息记录介质,其特征在于:

上述光信息记录介质还在上述变形层上配设透明的保护层。

3.根据权利要求1所述的光信息记录介质,其特征在于:

上述反射层通过利用在表面形成有凹凸的金属模按压上述反射层的表面,在该反射层上沿其厚度方向形成凹凸。

4.根据权利要求1所述的光信息记录介质,其特征在于:

上述第二透光性基板在该第二透光性基板的形成上述发热层的一侧的面上,形成用于在上述反射层上形成上述第二全息图的像素的凹凸。

5.根据权利要求1所述的光信息记录介质,其特征在于:

上述第二透光性基板在该第二透光性基板的形成上述发热层的一侧的面上,形成跟踪用螺旋状沟。

6.一种在光信息记录介质中形成全息图的全息图形成方法,该光信息记录介质在第一透光性基板的一个面上从该第一透光性基板侧依次形成记录层和半透光反射层,进而,隔着粘合在上述第一透光性基板的具有上述记录层和上述半透光反射层的一侧的面上的第二透光性基板,依次形成发热层、具有第二全息图的像素的反射层、以及变形层,其特征在于:

通过从与数据记录时照射激光的一侧相同的一侧经上述第二透光性基板对上述发热层照射激光,在预先形成上述第二全息图的像素的反射层上还形成第一全息图的像素。

7.根据权利要求6所述的光信息记录介质的全息图形成方法,其特征在于:

以比上述第一全息图的像素的节距短的节距形成上述第二全息图的像素。

8.根据权利要求6所述的光信息记录介质的全息图形成方法,其特征在于:

在对上述发热层照射激光的同时,对上述记录层照射激光。

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