[发明专利]一种泡沫基体的纳米TiO2化学镀膜方法

权利要求书

1.一种泡沫基体的纳米TiO2化学镀膜方法，它是将泡沫基体材料置于一个能抽真空和能通过辉光放电产生低温等离子体的设备腔内两极板之间，抽真空进行前处理，然后将乳状镀液注入化学镀槽内并加温，再将经过前处理的泡沫基体材料放入化学镀槽内进行热处理后提出，滤除镀液并冲洗干净，风干去除水份，即可得到表面承载均匀的纳米TiO₂镀膜泡沫材料，所述乳状镀液是由重量分数0.3％～1％的氯化钠，重量分数0.3％～1％的磷酸钠，重量分数0.06％～0.1％的硅酸钠溶入纯净水快速搅拌并加入重量分数0.5％～1.5％的聚乙二醇双月桂酸脂和重量分数0.5％～1.5％的月桂酸二乙醇酰胺后，继续快速搅拌下缓慢加入重量分数为3％～15％、粒径为5～15纳米的TiO₂粉体继续高速搅拌1-3小时，最后加入微量六偏磷酸钠，调整pH值为7-10，充分搅拌均匀制备而成。

2.根据权利要求1所述的一种泡沫基体的纳米TiO2化学镀膜方法，其特征在于所述泡沫基体材料包括非金属和金属材料。

3.根据权利要求1所述的一种泡沫基体的纳米TiO₂化学镀膜方法，其特征在于泡沫基体材料前处理电极间距7mm～55mm，真空程度达到800Pa-1000Pa，温度在70℃～85℃区间，处理时间控制在30秒到5分钟。

4.根据权利要求1所述的一种泡沫基体的纳米TiO₂化学镀膜方法，其特征在于将乳状镀液注入化学镀槽内加温至70℃～98℃，再将经过前处理的泡沫基体材料放入化学镀槽内进行热处理，沉积速率控制在2μm/h～10μm/h之间，浸镀20～180分钟后提出。

5.根据权利要求1所述的一种泡沫基体的纳米TiO₂化学镀膜方法，其工艺过程为： 

(1)将泡沫基体材料送入一个能抽真空和能通过辉光放电产生低温等离子体设备的真空室，并固定在高压电极板与地电极板之间，电极间距7mm～55mm，电源为单相AC220V，启动运行装置；

(2)开始排气，使真空室内的真空程度达到800Pa-1000Pa的真空度；

(3)向真空室内输入氩气，使氩气进入等离子舱内至大气气压，开始抽气，控制流入氩气速率小于抽气速率；

(4)在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压，使气体被击穿，并通过辉光放电而发生离子化和产生等离子体，让在真空室产生的等离子体完全笼罩被处理的泡沫基体材料，开始进行前处理，温度在70℃～85℃区间，处理时间控制在30秒到5分钟；

(5)处理完毕后切断高频电压，并将气体及汽化的污垢排出，取出已清洗的材料，用吸尘方法将材料表面脱落物清除，放入真空袋中密封；

(6)常温下，将重量分数0.3％～1％的氯化钠，重量分数0.3％～1％的磷酸钠，重量分数0.06％～0.1％的硅酸钠溶入纯净水快速搅拌并加入重量分数0.5％～1.5％的聚乙二醇双月桂酸脂和重量分数0.5％～1.5％的月桂酸二乙醇酰胺后，继续快速搅拌下缓慢加入重量分数为3％～15％、粒径为5～15纳米TiO₂粉体继续高速搅拌1-3小时，最后加入微量六偏磷酸钠，调整 pH值为7-10，充分搅拌均匀制备成均匀、分散、稳定的乳状镀液；

(7)将乳状镀液注入可升温化学镀槽内，并加温至70℃～98℃；

(8)将经过前处理的泡沫基体材料放入镀槽内进行热处理，沉积速率控制在2μm/h～10μm/h区间，浸镀20～180分钟后提出；

(9)滤除镀液，以清水冲洗掉镀膜件表面的残液，置入洁净风干箱内去除水份。