[发明专利]一种Mn掺杂SnO2室温稀磁半导体纳米粉的制备方法无效
申请号: | 200710168978.9 | 申请日: | 2007-12-21 |
公开(公告)号: | CN101219478A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 袁松柳;田召明;王永强;何惊华 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 | 代理人: | 张伟 |
地址: | 430074湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 mn 掺杂 sno sub 室温 半导体 纳米 制备 方法 | ||
1.一种Mn掺杂SnO2室温稀磁半导体纳米粉的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
A.室温下,将分析纯的氯化业锡,在超声波辅助下,溶于稀盐酸无水乙醇溶液中,然后加入乙酸锰,得到混合溶液,其中Mn2+和Sn2+离子摩尔比在1∶99~7∶93之间,同时加入无水乙醇调节Sn2+的摩尔浓度在0.1~0.3mol/L之间;将碳酸氢氨加入到无水乙醇中,配置成0.5~2mol/L碳酸氢氨无水乙醇溶液,碳酸氢氨应过量10%~30%;
B.在超声波分散和60℃水浴条件下,将碳酸氢氨无水乙醇溶液加入到混合溶液中,同时不断搅拌,接着滴加氨水,调节pH=9~10,继续超声波分散30~60分钟;
C.将上步所得溶液陈化,得到的沉淀过滤,用去离子水多次洗涤,直到溶液pH为中性为止,所得的沉淀在100℃~150℃烘箱中干燥,研磨得到原始粉体;
D.将原始粉体在空气中退火处理3~6小时,退火温度为450℃~800℃,即得到Mn掺杂SnO2室温稀磁半导体纳米粉。
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