[发明专利]等离子加工装置及其电极结构无效
申请号: | 200710169239.1 | 申请日: | 2004-03-04 |
公开(公告)号: | CN101146398A | 公开(公告)日: | 2008-03-19 |
发明(设计)人: | 野上光秀;宫本荣司 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34;H01L21/306 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子 加工 装置 及其 电极 结构 | ||
1.一种等离子加工装置中的电极结构,其中加工气体被等离子化,被等离子化的气体被施加到工件,其中
所述电极结构包括:
用于等离子化所述加工气体的电极,以及
设置相邻于所述电极的通道形成部件,
所述电极和所述通道形成部件的相对表面限定介质通道,用于允许进行温度调节的介质从其中通过,
设置在所述相对表面之间的第一和第二密封部件,所述第一和第二密封部件以在其间夹持所述介质通道的方式沿着所述介质通道延伸,
所述电极、通道形成部件、第一和第二密封部件都具有环形结构,
所述电极的外周表面和通道形成部件设置至少作为所述相对表面的一部分,
所述介质通道被形成在所述外周表面之间,以及
所述第一密封部件被设置在所述外周表面之间,
其中所述电极和通道形成部件之一包括径向凸起的环形凸缘部分,所述凸缘部分具有与所述外周表面正交的扁平表面,
所述电极和通道形成部件的另外一个包括与所述外周表面正交并与所述凸缘部分的扁平表面相对的扁平表面,以及
所述扁平表面作为另外的相对表面设置并允许所述第二密封部件夹持在其间。
2.根据权利要求1所述的等离子加工装置中的电极结构,其特征在于,所述电极和通道形成部件之一的外周表面被限定作为连续的圆柱表面,
所述电极和通道形成部件的另外一个的外周表面在其中间部分设置环形槽用作所述介质通道,并进一步设有第一和第二外周表面部分,所述第一和第二外周表面部分以能够在其间夹持所述环形槽的方式设置,
所述第一外周表面部分与所述电极和通道形成部件之一的外周表面通过间隙相对并与所述第一密封部件相连接,以及
与所述扁平表面相交的第二外周表面部分基本没有设置任何间隙而与所述电极和通道形成部件之一的外周表面相对。
3.一种等离子加工装置,其特征在于,根据权利要求1所述的等离子加工装置中的电极结构被同轴地一个安置在内侧上,另外一个安置在径向方向上的外侧上,
电极的内周表面和通道形成部件的外周表面在所述内侧电极结构中彼此相对,
电极的外周表面和通道形成部件的内周表面在所述外侧电极结构中彼此相对,以及
在所述内侧电极结构中的所述电极的外周表面和所述外侧电极结构的所述电极的内周表面之间形成的间隙设置作为空气通道,并且流经所述空气通道的加工气体通过所述电极之间所产生的电场等离子化。
4.一种等离子加工装置,其中加工气体被等离子化,被等离子化的气体被施加到工件上,所述装置包括:
环形内电极;
环形外电极,所述环形外电极被径向向外安置在所述内电极上,这样所述外电极与所述内电极共轴;
绝缘保持器,所述绝缘保持器覆盖所述电极的整个外周;以及
由金属制造并覆盖所述保持器的整个周围的框架;
形成在所述内电极的外周表面和所述外电极的内周表面之间的环形间隙,所述环形间隙作为气体通道,流经所述气体通道的加工气体通过在所述电极之间所产生的电场等离子化;
连接到所述气体通道的环形吹风口,其被形成在所述保持器的工件侧上的被覆盖部分上,等离子加工气体通过所述吹风口朝向所述工件而被吹送;
形成在被覆盖部分上的环形抽吸端口,所述被覆盖部分位于对应所述吹风口的区域上的所述框架的工件侧上,
用于将所述抽吸端口连接到所述抽吸装置的排放通道至少被形成在框架上,由此所述加工气体和在使用被等离子化加工气体对所述工件的表面的处理的过程中产生的副产品从所述抽吸端口通过所述排放通道被排放到所述抽吸装置;
所述排放通道包括由抗腐蚀树脂所制造并被允许通过所述框架的排放管。
5.根据权利要求4所述的等离子加工装置,其特征在于,所述框架包括圆柱形外周侧被覆盖部分,所述排放管被允许轴向通过所述外周侧被覆盖部分。
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