[发明专利]半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统有效
| 申请号： | 200710170724.0 | 申请日： | 2007-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101169370A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 苏志国;许金通;张文静;胡其欣;袁永刚;李向阳;刘骥 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | G01N21/59 | 分类号： | G01N21/59 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 20008*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 半导体 薄膜 材料 紫外 透过 均匀 测试 系统 | ||
1.一种半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统，它由光源(1)、单色仪(2)、光学系统(3)、二维步进扫描装置(4)、信号接收装置(5)、信号处理和数据采集设备(6)和计算机(7)组成；光源(1)发出的连续紫外光经单色仪(2)转换成指定波长的紫外单色光，紫外单色光经光学系统(3)汇聚在二维扫描平台上的测试样品(8)上的某个测试区域上，信号接收装置(5)接收对该区域透过率测量的信号并经信号处理和数据采集设备(6)的数据处理后存入计算机，移动二维步进装置(4)重复上述透过率测量过程，可以得到测试样品(8)各个测量区域的透过率数据，最后由计算机对测量数据进行统计、处理得到测试样品(8)的透过率均匀性测量值。
2.根据权利要求1的一种半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统，其特征在于：所说的光源(1)是氙灯。
3.根据权利要求1的一种半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统，其特征在于：所说的光学系统(3)由前透镜组(301)和后透镜组(302)组成，系统测量光斑的尺寸可以通过改变前透镜组(301)和后透镜组(302)的焦距大小来进行调整。
4.根据权利要求1的一种半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统，其特征在于：所说的信号接收装置(5)是硅基单元探测器，在探测器上加有一屏蔽盒，屏蔽盒仅在光路方向开有一个小孔接收透射光信号。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所，未经中国科学院上海技术物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710170724.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
