[发明专利]一种多晶硅化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200710170809.9 | 申请日： | 2007-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN101440258A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓;王晨 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/18 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 化学 机械抛光 | ||
1.一种多晶硅化学机械抛光液，含有研磨颗粒和水，其特征在于：还含有至少一种具有两个或两个以上基团的化合物。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的具有两个或两个以上基团的化合物为双胍类化合物或其酸加成盐，或聚胍类化合物或其酸加成盐。
3.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于：所述的聚胍类化合物或其酸加成盐的聚合度为2～100。
4.如权利要求2或3所述的抛光液，其特征在于：所述的酸为盐酸、磷酸、硝酸、醋酸、葡萄糖酸或磺酸。
5.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于：所述的双胍类化合物或其酸加成盐为双胍、二甲双胍、苯乙双胍、1，1’-己基双[5-(对氯苯基)双胍、吗啉胍、上述化合物的酸加成盐或6-脒基-2-萘基4胍基苯甲酸酯甲基磺酸盐；所述的聚胍类化合物或其酸加成盐为聚六亚甲基胍、聚六亚甲基双胍、聚(六亚甲基双氰基胍-六亚甲基二胺)或其酸加成盐。
6.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的具有两个或两个以上基团的化合物的含量为质量百分比0.0001～20％。
7.如权利要求6所述的抛光液，其特征在于：所述的具有两个或两个以上基团的化合物的含量为质量百分比0.001～15％。
8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒为二氧化硅、氧化铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二氧化铈、二氧化钛和高分子研磨颗粒中的一种或多种。
9.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的含量为质量百分比0.1～30％。
10.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液的pH值为8～11。
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