[发明专利]有机电致发光显示面板蚀刻设备及其方法

说明书

技术领域

本发明涉及电子半导体元器件制造技术领域，具体的说是一种适用于有机电致发光面板的蚀刻设备和相关方法的技术。

背景技术

有机电致发光显示器件(OLED)作为平板显示器的一大分支，具有面板厚度薄(小于2mm)，自发光，低操作电压(3-10V)，高亮度，高对比，宽视角等特性，成为极具潜力的一项平面显示技术。有机电致发光显示器件已在部分厂家进行了商业上的批量生产，但由于有机电致发光显示器件(OLED)毕竟是一个比较新的显示领域，仍然面临许多困难尚待克服。有机电致发光器件研发的实验线设备仍是量产厂家及研究机构配备的必须设备，主要用于开发新产品及产品性能的改进。这种实验线设备既要能同量产设备有一定的相同流程的控制，也要尽可能的节省资金投入。

有机电致发光器件一般是由上，下两个电极和夹在其中间的具有半导体性质的有机材料薄膜组成，其中的阳极是透明导电的氧化銦锡(ITO)。另外为了更好的增加有机发光器件与驱动IC模块的连接性能，往往会在已覆盖有透明导电薄膜(ITO)的玻璃基板上再溅射上一层导电性能优良的金属层以便形成覆盖有金属的电极引出线。在这种制造工艺中透明的ITO阳极和像素区域的形成以及金属电极引出线均是通过传统的湿法光刻法分别实现的(光阻显影形成图形后再选择性的进行蚀刻完成)。

目前来说，公知的实验线上使用的蚀刻设备往往有两种情况。一种简单的使用不同蚀刻槽和水洗槽对ITO层或表面金属层进行蚀刻，其间必须利用人手取出或传送基板，并吹干，大大延长了蚀刻过程，且无法精确控制蚀刻时间，此外由于人为因素无法严格控制，在传送过程中容易损伤和沾污，无法保障蚀刻基板的品质。另一种情况是将量产光刻线的尺寸缩小后作为实验线使用(量产线的基板一般都很大)，量产的蚀刻设备为了提高效率，必定是连续的传输基板，且由于传输速度的限制，蚀刻时间在一定的情况下必定会有2-3个蚀刻腔(甚至更多个)，这种情况下投入的资金基本会很大，整个设备过于复杂，不易修理，不符合实验线简单高效率，投入少，修理容易，流程尽量短的要求。

发明内容

针对上述现有技术中存在的缺陷，本发明所要解决的技术问题是提供一种结构简单，维修容易，制造成本低，能大大缩短蚀刻时间和提高蚀刻效果的有机电致发光显示面板蚀刻设备及其方法。

为了解决上述技术问题，本发明所提供的一种有机电致发光显示面板蚀刻设备，包括由基板的输入端至输出端依次为投片口、内设有风刀用于隔绝外界空气和阻止酸气外溢的过渡单元、用于蚀刻基板的蚀刻单元、设有风刀用于吹除蚀刻液的液切单元、用于水洗基板的水洗单元、用于吹干、清洁基板的风刀干燥单元，所述各单元由用于运送基板的滚轮传送单元连接；其特征在于，所述蚀刻单元为一循环蚀刻槽，所述水洗单元为一循环冲洗槽。

进一步的，所述滚轮传送单元的系统控制采用PLC控制和编码器控制，传送电机为小型齿轮减速电机。

进一步的，所述风刀干燥单元的风刀由光电感应探头控制开启和关闭。

进一步的，所述水洗单元的传动齿轮与主槽相隔，单独摆放，其材料选用高分子聚合物。

为了解决上述技术问题，本发明所提供的一种有机电致发光显示面板的蚀刻方法：

1)基板送入投片口，即将一枚显影完的表面是ITO的玻璃基板沿着传送方向送入蚀刻机的投片口；

2)基板送入过渡单元(内有风刀可隔绝外界空气和阻止酸气外溢)；

3)基板送入蚀刻单元，喷嘴喷出ITO的专用蚀刻液(硝酸和盐酸混合液)对ITO表面进行彻底全面的喷淋，在处理槽里的蚀刻液已经加热到了适当的温度；

4)接下来基板经过液切单元，有风刀吹掉ITO表面的蚀刻液，避免污染水洗槽；

5)基板送入水洗单元，此处使用纯水对ITO表面进行冲洗，通过调整纯水喷淋的压力，可以更好的冲洗掉ITO表面的酸液；

6)最后清洗完毕的ITO基板通过风刀干燥单元，将干燥洁净空气吹到玻璃基板的上下两面，吹干玻璃基板，至此一枚清洁干燥的有完整蚀刻图形的OLED用ITO基板从出片口流出；

其特征在于，在所述步骤3)中，调节传送单元的传输速度为1米/分钟(可自行设定一定的传输速度)，根据蚀刻单元处理槽的长度和以确定的蚀刻时间精确设置传送单元在此处的循环蚀刻槽中往复运动的次数，使得玻璃基板在蚀刻单元的循环处理槽中往复运动彻底完成刻蚀；在所述步骤5)中，在该水洗单元同样调节传送单元使其带着基板在循环冲洗槽中做往复运动，通过数次循环冲洗可以更好的清洗掉ITO表面的残留酸液。