[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200710171601.9 | 申请日： | 2007-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN101451047A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓;姚红 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/16 | 分类号： | C09G1/16;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，含有研磨颗粒和水，其特征在于：其还含 有水溶性含氮聚合物，所述的水溶性含氮聚合物为聚乙烯亚胺类 化合物和/或聚丙烯酰胺类化合物,其中所述的聚乙烯亚胺类化合 物为含有结构的聚合物，其分子量为400～100000； 所述的聚丙烯酰胺类化合物为含有结构的聚合物， 其分子量为10000～10000000。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的含有 结构的聚合物的分子量为400～50000；所述的含有 结构的聚合物的分子量为10000～5000000。
3.如权利要求1或2所述的抛光液，其特征在于：所述的含有 结构的聚合物为聚乙烯亚胺；所述的含有 结构的聚合物为聚丙烯酰胺。
4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的水溶性含氮聚 合物的含量为质量百分比0.0001～3%。
5.如权利要求4所述的抛光液，其特征在于：所述的水溶性含氮聚 合物的含量为质量百分比0.001～1%。
6.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒选自 二氧化硅、氧化铝、掺杂铝的二氧化硅、覆盖铝的二氧化硅、二 氧化铈、二氧化钛和高分子研磨颗粒中的一种或多种。
7.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的研磨颗粒的含 量为质量百分比0.1～30%。
8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于：所述的抛光液的pH 为8～12。
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