[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200710171602.3 | 申请日： | 2007-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN101451044A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖;陈国栋;包建鑫 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，其特征在于由研磨颗粒，水以及下述化合 物的一种或多种组成：有机膦酸、聚羧酸类化合物、低级脂肪醇， 其中所述的低级脂肪醇为异丙醇和/或乙二醇，或含有研磨颗粒和 水，以及糖类化合物，且所述化学机械抛光液的pH值为2-5。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机 膦酸选自羟基亚乙基二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲 基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、多元醇膦酸酯、2-膦酸丁 烷-1，2，4-三羧酸、2-羟基膦酰基乙酸和多氨基多醚基四亚甲基 膦酸中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机 膦酸的含量为质量百分比0.01～5%。
4.如权利要求3所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的有机 膦酸的含量为质量百分比0.1～2%。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的聚羧 酸类化合物选自聚丙烯酸及其盐、聚马来酸、聚环氧琥珀酸、聚 氨基酸、水解聚马来酸、马来酸酐-丙烯酸共聚物、丙烯酸-有机 膦-磺酸盐共聚物、膦酸基羧酸共聚物和丙烯酸-有机磷-磺酸共聚 物中的一种或多种。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的聚羧 酸类化合物的分子量为200～20000。
7.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的聚羧 酸类化合物的含量为质量百分比0.01～5%。
8.如权利要求7所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的聚羧 酸类化合物的含量为质量百分比0.1～2%。
9.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的低级 脂肪醇的含量为质量百分比0.1～20%。
10.如权利要求9所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述低级脂 肪醇的含量为质量百分比1～15%。
11.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的糖类 化合物选自葡萄糖、葡萄糖酸、果糖、麦芽糖和甘露糖中的一种 或多种。
12.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的糖类 化合物的含量为质量百分比0.01～15%。
13.如权利要求12所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的糖类 化合物的含量为质量百分比1～10%。
14.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的研磨 颗粒为二氧化硅。
15.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于：所述的研磨 颗粒的含量为质量百分比0.1～20%。
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