[发明专利]电荷泵电流测试方法无效
申请号: | 200710172265.X | 申请日: | 2007-12-13 |
公开(公告)号: | CN101183134A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 戴明志;叶景良;廖宽仰 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | G01R31/26 | 分类号: | G01R31/26;G01R19/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电荷 电流 测试 方法 | ||
1.一种电荷泵电流测试方法,其特征在于,
(1)、对NMOS管取一个大于或等于0.5MHz的频率作为次高频h1,或对PMOS管取一个大于或等于0.9MHz的频率作为次高频h2,并测得此时MOS管的衬底电流Isub1;
(2)、取一个大于所述次高频的频率h+h1或h+h2作为高频,并测得此时MOS管的衬底电流Isub2;
(3)、将所得的衬底电流Isub2减去衬底电流Isub1,即为在目标频率h时的电荷泵电流;
(4)、随着栅极的基准电压Vbase的变化,电荷泵的电流曲线呈成钟罩型或峰形分布,电荷泵电流绝对值的最大值与目标频率h成正比。
2.如权利要求1所述的电荷泵电流测试方法,其特征在于,所述的NMOS管在测试时,其次高频的取值为大于或者等于0.5MHz。
3.如权利要求1或2所述的电荷泵电流测试方法,其特征在于,所述的NMOS管在测试时,其次高频为0.9MHz。
4.如权利要求1所述的电荷泵电流测试方法,其特征在于,所述的PMOS管在测试时,其次高频的取值为大于或者等于0.9MHz。
5.如权利要求1所述的电荷泵电流测试方法,其特征在于,所述的MOS管的栅氧化物的厚度在小于或者等于15A。
6.如权利要求1所述的电荷泵电流测试方法,其特征在于,所述的NMOS管的目标频率h与次高频h1的差值小于或者等于0.5MHz。
7.如权利要求1所述的电荷泵电流测试方法,其特征在于,所述的PMOS管的目标频率h与次高频h2的差值小于或者等于0.2MHz。
8.如权利要求7所述的电荷泵电流测试方法,其特征在于,所述的PMOS管的目标频率h与次高频h1的差值小于0.1MHz。
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