[发明专利]一种同轴对准消色差光学系统有效

专利信息
申请号: 200710172801.6 申请日: 2007-12-21
公开(公告)号: CN101211124A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 徐兵;吕晓薇 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00;G02B17/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 同轴 对准 色差 光学系统
【权利要求书】:

1.一种同轴对准消色差光学系统,包含同轴对准光学系统和同轴对准曝光系统,该同轴对准光学系统包含掩模标记照明系统和掩模标记成像系统,该同轴对准曝光系统包含曝光对象标记照明系统和曝光对象标记成像系统;

其特征在于:

所述的掩模标记照明系统包含:从照明光纤出射端开始沿光轴依次放置的照明物镜组、滤波片、分束直角棱镜、孔径光阑和前组成像物镜组,

其对于依次放置在所述前组成像物镜组后的掩模板下表面上的掩模标记实现均匀照明;

所述的掩模标记成像系统包含:从掩模板下表面开始沿光轴依次放置的前组成像物镜组、孔径光阑、分束直角棱镜、后组成像物镜组和CCD摄像机接收面,其对所述掩模板上的掩模标记实现清晰成像;

所述的曝光对象标记照明系统是由掩模标记照明系统和光学投影系统组成的,即其包含:从照明光纤出射端开始沿光轴依次放置的照明物镜组、滤波片、分束直角棱镜、孔径光阑、前组成像物镜组、掩模板和光学投影系统,其对依次放置在光学投影系统后的曝光对象上表面上的曝光对象标记实现均匀照明;

所述的曝光对象标记成像系统是由掩模标记成像系统和光学投影系统组成的,即其包含:从曝光对象上表面开始沿光轴依次放置的光学投影系统、掩模板、前组成像物镜组、孔径光阑、分束直角棱镜、后组成像物镜组和CCD摄像机接收面,其对所述曝光对象上的曝光对象标记实现清晰成像。

2.如权利要求1所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的掩模板下表面为掩模标记成像系统的物面;所述的CCD摄像机接收面为掩模标记成像系统的像面。

3.如权利要求1所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的曝光对象上表面为曝光对象标记成像系统的物面;所述的CCD摄像机接收面为曝光对象标记成像系统的像面。

4.如权利要求1所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的掩模标记照明系统是临界照明系统,所述的照明物镜组是照明双胶合物镜组。

5.如权利要求1所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的掩模标记照明系统是柯勒照明系统,所述的照明物镜组是柯勒照明物镜组。

6.如权利要求1所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的曝光对象标记照明系统为临界照明系统,所述的照明物镜组是照明双胶合物镜组。

7.如权利要求1所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的曝光对象标记照明系统为柯勒照明系统,所述的照明物镜组是柯勒照明物镜组。

8.如权利要求4或6所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的照明双胶合物镜组由照明双胶合物镜组第一透镜和照明双胶合物镜组第二透镜胶合组成。

9.如权利要求8所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的照明双胶合物镜组第一透镜是双凸透镜,所述的照明双胶合物镜组第二透镜是双凹透镜。

10.如权利要求4所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的掩模标记照明系统是临界照明系统时,所述的照明光纤出射端与掩模板的下表面为物像共轭面。

11.如权利要求6所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的曝光对象标记照明系统为临界照明系统时,所述的照明光纤出射端与曝光对象上表面为物像共轭面。

12.如权利要求5或7所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的柯勒照明物镜组由柯勒照明物镜组第一透镜,柯勒照明物镜组第二透镜,柯勒照明物镜组第三透镜,视场光阑和柯勒照明物镜组第四透镜组成,且相邻两个透镜之间彼此分离设置;其中,所述的柯勒照明物镜组第一透镜,柯勒照明物镜组第二透镜和柯勒照明物镜组第三透镜组成集光镜组。

13.如权利要求12所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的柯勒照明物镜组第一透镜和柯勒照明物镜组第四透镜均为凸凹透镜,所述的柯勒照明物镜组第二透镜是双凹透镜,所述的柯勒照明物镜组第三透镜是双凸透镜。

14.如权利要求12所述的同轴对准消色差光学系统,其特征在于,所述的掩模标记照明系统是柯勒照明系统时,所述的照明光纤出射端与孔径光阑为物像共轭面;视场光阑与掩模板下表面上的掩模标记面为物像共轭面。

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