[发明专利]单色及白色有机电致发光器件制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种平板显示器件及其制备方法，特别是一种单色及白色有机电致发光器件制备方法。

背景技术

有机电致发光器件又称为有机发光二极管(Organic Light EmittingDiode，OLED)，是一种新型的平板显示器件。与液晶显示器件相比，OLED具有主动发光、高亮度、高对比度、超薄、低功耗、大视角以及工作温度范围宽等诸多优点，被认为是最有可能替代液晶显示器的器件，其中，白色有机电致发光器件(White Organic Light Emitting Diode，WOLED)的研究更是受到广泛关注，它既可用做目前商品化程度很高的液晶显示器(LCD)的背光源，满足其轻、薄、低功耗的要求；又能与成熟的彩色滤光片技术相结合实现宽色域的彩色显示；还可以利用其高发光效率用于平面照明技术。

WOLED器件的结构多种多样，包括利用带多色发光基团的单种化合物发白光、多种颜料掺杂在同一主体中形成单层WOLED器件、使用R、G、B三色发光材料制作多层叠层的WOLED器件结构以及使用R、G、B三色子像素合成WOLED器件的结构等等。

现有技术中的多层或单层的红色、绿色、蓝色等单色及白色有机电致发光器件的制备方法一般如下：在基板上通过刻蚀工艺制备第一电极，第一电极的材料为ITO、ZnO等半导体薄膜或极薄的金、银、铂等金属薄膜，然后在垂直于第一电极的方向上制备一定间隔的隔离柱，再在隔离柱上对准掩膜板，热蒸镀各功能层小分子有机材料形成各像素，包括传输层、发光层、阻挡层、缓冲层等，之后在有机材料层和隔离柱上表面用热蒸发或光层、阻挡层、缓冲层等，之后在有机材料层和隔离柱上表面用热蒸发或溅射工艺制备第二电极薄膜，通过刻蚀工艺形成第二电极，或对准第二电极掩膜，通过热蒸发或溅射工艺直接在有机功能材料表面制备第二电极。图1为现有技术制备的单色及白色有机电致发光器件结构示意图，其中，第一电极30形成在基板40上，隔离柱20位于第一电极30上，掩膜10位于隔离柱20上。

现有技术中单色及白色有机电致发光器件的制备工艺均需要繁琐的掩模板对准以及光刻过程，由于氧和水对OLED有机功能材料有很强的腐蚀作用，将严重影响器件的发光效率和使用寿命，所以掩模对准过程一般都采用在集成多层有机薄膜蒸镀系统内部完成，这对工艺的要求非常高，难以掌握，重复性差，而且成本较高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种单色及白色有机电致发光器件制备方法，无需掩膜对准工艺，工艺简单，可重复性好，降低生产成本，提高良品率。

为了实现上述目的，本发明提供了一种单色及白色有机电致发光器件制备方法，包括：

在基板上形成等间隔相互平行的第一电极；

在所述基板和第一电极上涂布APX-K1薄膜；

在所述APX-K1薄膜上涂布负性光刻胶并曝光；

加热APX-K1薄膜并显影所述APX-K1薄膜和负性光刻胶，形成倒梯形隔离柱；

在所述隔离柱和第一电极上形成有机功能材料层；

在所述有机功能材料层上形成第二电极。

本发明提供的单色及白色有机电致发光器件制备方法，以隔离柱为掩膜，直接在隔离柱和第一电极上形成有机功能材料层，无需繁琐的掩膜对准工艺，工艺简单，可重复性好，降低了生产成本。

附图说明

图1为现有技术制备的单色及白色有机电致发光器件结构示意图；

图2为本发明单色及白色有机电致发光器件制备方法流程图；

图3为本发明一实施例在基板上形成的阳极结构示意图；

图4为本发明另一实施例中倒梯形隔离柱的结构示意图；

图5为本发明又一实施例在隔离柱上蒸镀有机功能材料层的结构示意图；

图6为本发明再一实施例的结构示意图。

具体实施方式

图2为本发明单色及白色有机电致发光器件制备方法流程图，具体步骤为：

步骤11、在基板上形成等间隔相互平行的第一电极；

步骤12、在所述基板和第一电极上涂布APX-K1薄膜；

步骤13、在所述APX-K1薄膜上涂布负性光刻胶并曝光；

步骤14、加热APX-K1薄膜并显影所述APX-K1薄膜和负性光刻胶，形成倒梯形隔离柱；

步骤15、在所述隔离柱和第一电极上形成有机功能材料层；

步骤16、在所述有机功能材料层上形成第二电极。