[发明专利]一种高灵敏度的纳米生物传感器制作方法

权利要求书

1.一种高灵敏度的纳米生物传感器制作方法主要由以下步骤完成：

(1)选择基底材料，在实验室中完成金属纳米阵列的制作；

(2)将基底浸泡入所配制的生物活性化学试剂溶液之中，使金属表面带上与生物分子相对应的活性基团，使得抗原与银粒子阵列的结合更加容易，所述的生物活性化学试剂为辛烷硫醇1-OT和含氢硫基的十一醇酸11-MUA，两者的浓度均为1～3mM毫摩尔/升，采用溶剂为乙醇；配比后的溶液中辛烷硫醇1-OT溶液和含氢硫基的十一醇酸11-MUA的含量的摩尔百分比为1∶3～3∶1；

(3)将步骤(2)得到浸泡后的基片取出，清洗去掉基片表面残留物质，并用氮气吹干；

(4)选择与被探测分子相对应的抗原及零距离耦合试剂；

(5)将抗原溶液及零距离耦合试剂溶液进行混合，两者的浓度为1～3mM，混合摩尔比例为1∶2～2∶1，溶剂为磷酸盐缓冲液，然后将其滴加在基片表面，使其发生耦合反应，反应时间为3小时以上；

(6)再将基片进行冲洗，去除基片表面残留物质，并吹干，即完成纳米传感器的制作。

2.根据权利要求1所述的高灵敏度的纳米生物传感器制作方法，其特征在于：所述步骤(1)中的基底材料为玻璃或石英。

3.根据权利要求1所述的高灵敏度的纳米生物传感器制作方法，其特征在于：所述步骤(1)中金属纳米阵列的制作时选用的金属材料为激发表面等离子体的材料。

4.根据权利要求3所述的高灵敏度的纳米生物传感器制作方法，其特征在于：所述的金属材料为金属银。

5.根据权利要求1所述的高灵敏度的纳米生物传感器制作方法，其特征在于：所述步骤(1)中金属纳米阵列为矩形排布的菱形结构阵列。

6.根据权利要求5所述的高灵敏度的纳米生物传感器制作方法，其特征在于：所述的菱形结构阵列的制作方法如下：

(a)彻底清洗基底后用氮气吹干；

(b)将不同直径的两种单分散性的纳米球混合均匀后滴加在基片表面实现自组装；

(c)用反应离子刻蚀RIE技术对制作的纳米球自组装单层进行刻蚀，把直径小的纳米球完全刻蚀掉；

(d)用真空沉积的方法沉积厚度为30～50nm左右的金属金、或银重金属；

(e)用超声波振荡的方法去掉纳米球，得到菱形金属纳米阵列。

7.根据权利要求1所述的高灵敏度的纳米生物传感器制作方法，其特征在于：所述步骤(2)中的浸泡时间为22-25小时。

8.根据权利要求1所述的高灵敏度的纳米生物传感器制作方法，其特征在于：所述步骤(3)中或步骤(6)中采用磷酸盐缓冲液进行冲洗。