[发明专利]一种电学双稳态有机薄膜的制备方法有效
申请号: | 200710176279.9 | 申请日: | 2007-10-24 |
公开(公告)号: | CN101419815A | 公开(公告)日: | 2009-04-29 |
发明(设计)人: | 涂德钰;刘明;刘新华;商立伟;谢常青 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100029*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电学 双稳态 有机 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种电学双稳态有机薄膜的制备方法,其特征在于,该方法包括:
将金属M纳米颗粒与有机材料TCNQ粉末按一定比例混合溶解于有机溶剂之中;
在基片上旋涂所述金属M纳米颗粒与有机材料TCNQ粉末的混合溶液;
待溶剂挥发后,对所述基片在80至150摄氏度的温度下退火1至3小时,形成有机电学双稳态有机薄膜。
2.根据权利要求1所述的电学双稳态有机薄膜的制备方法,其特征在于,所述的金属M为Cu或Ag。
3.根据权利要求1所述的电学双稳态有机薄膜的制备方法,其特征在于,所述一定比例为金属M纳米颗粒∶有机材料TCNQ粉末=1∶1或金属M纳米颗粒∶有机材料TCNQ粉末=2∶1。
4.根据权利要求1所述的电学双稳态有机薄膜的制备方法,其特征在于,所述的有机溶剂为氯仿或乙腈。
5.根据权利要求1所述的电学双稳态有机薄膜的制备方法,其特征在于,所述基片为硅片、氧化硅片、氮化硅片、玻璃或石英片。
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