[发明专利]超分子结构2-萘胺-1,5-二磺酸插层紫外吸收材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710177039.0 申请日: 2007-11-09
公开(公告)号: CN101173118A 公开(公告)日: 2008-05-07
发明(设计)人: 李殿卿;徐向宇;柴灏 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C09C3/08 分类号: C09C3/08;C08K9/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 何俊玲
地址: 100029北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 超分子结构 萘胺 二磺酸插层 紫外 吸收 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种超分子结构2-萘胺-1,5-二磺酸插层紫外吸收材料,简写为ZnAl-NADA-LDHs,其分子式为:[Zn2+1-xAl3+x(OH)2](C10H7NO6S2)2-x/2·mH2O,其中Zn2+/Al3+摩尔比为2~4∶1,m为层间结晶水分子数;

ZnAl-NADA-LDHs的层间阴离子约440℃时开始燃烧分解,510℃达到最高放热峰;其热稳定性比NADA高;其对230~400nm波段范围的紫外线吸收达到75~90%以上,最大紫外吸收峰出现在350~380nm处,吸收率为88~92%。

2.一种如权利要求1所述的超分子结构2-萘胺-1,5-二磺酸插层紫外吸收材料的制备方法,具体步骤如下:

A.在带搅拌的反应器中加入除CO2的去离子水和水滑石LDHs前体并充分搅拌混合配置浓度为0.05~0.15M的水滑石前体悬浮液;

所用的水滑石前体是层间阴离子为NO3-的锌铝水滑石,其结构式为:[Zn2+1-xAl3+x(OH)2][NO3-x·mH2O]其中Zn2+/Al3+摩尔比为2~4∶1;

B.将NADA溶于除CO2的去离子水中配制浓度为0.05~0.2M的水溶液,用NaOH调整溶液pH值为4~11,至NADA完全溶解;

C.在氮气保护下,一边快速搅拌,一边将步骤B配制的NADA溶液加入步骤A的反应器中,NADA溶液的加入量应满足混合后体系中NADA阴离子摩尔数与水滑石前体的阴离子摩尔数之比为1.5~5∶1,在25~100℃温度下晶化5~24小时,过滤,洗涤,干燥得到ZnAl-NADA-LDHs插层的水滑石。

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