[发明专利]光刻胶掩模方法

权利要求书

1.一种形成光刻胶图案的方法，其特征在于，包括：

将敷掩板与基板贴合在一起；

在所述敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶；

从基板一侧对所述光刻胶进行烘烤；

从基板上移开敷掩板，形成所需的光刻胶图案。

2.根据权利要求1所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，将敷掩 板与基板贴合在一起具体为：将形状和大小与所述基板相同的敷掩板紧密地 压合在所述基板上，同时通过对位标记使所述敷掩板和基板严格地对位。

3.根据权利要求1所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，在所述 敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶具体为：采用直接涂敷方法或旋转涂敷方法 将光刻胶涂敷在所述敷掩板的敷掩图案上。

4.根据权利要求1所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，在所述 敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶具体为：通过控制涂敷的光刻胶量，在所述 敷掩板的敷掩图案上涂敷厚度为1μm～5μm的光刻胶。

5.根据权利要求1所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，从基板 一侧对所述光刻胶进行烘烤具体为：以80℃～160℃烘烤温度在基板一侧对 所述光刻胶进行烘烤。

6.根据权利要求5所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，对所述 光刻胶进行烘烤具体为：对所述光刻胶烘烤5秒～50秒。

7.根据权利要求1所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，所述光 刻胶为正性光刻胶或负性光刻胶。

8.根据权利要求1所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，所述敷 掩板为抗氧化、耐高温、耐腐蚀的非金属制品或金属合成制品。

9.根据权利要求8所述的形成光刻胶图案的方法，其特征在于，所述敷 掩板的敷掩图案采用平版印刷方法印制。

10.根据权利要求1～9中任一权利要求所述的形成光刻胶图案的方 法，其特征在于，所述光刻胶由以下重量百分比的原料组成：70％～75％的溶 解剂，19％～24％的高分子树脂，5％～6％的感光剂，1％～5％的添加剂。