[发明专利]耐溶剂电子纸微杯的制法及制备耐溶剂电子纸微杯的材料无效

专利信息
申请号: 200710177651.8 申请日: 2007-11-19
公开(公告)号: CN101441381A 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 唐芳琼;王健;孟宪伟;杨永源 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: G02F1/167 分类号: G02F1/167;G03F7/00;G03F7/004;G03F1/00
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 李 柏
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 溶剂 电子 纸微杯 制法 制备 材料
【权利要求书】:

1.一种耐溶剂电子纸微杯的制备方法,其特征是,该方法包括以下步骤:

1)基材预处理工艺:将刚性或柔性基材在处理液中冲洗,干燥,得到表面清洁干净的刚性或柔性基材;

2)电子纸微杯材料的配制:将丙烯酸酯的聚合体、改性的丙烯酸酯聚合体或者是它们的混合物的低聚物,丙烯酸酯、改性的丙烯酸酯或者是它们的混合物的单体,自由基型的光引发剂,丙烯酸酯、酸酐、胺中的一种或多种材料的改性剂,和丙烯酸多元醇、偶联剂、含硅或含氟表面活性剂中的一种或多种的表面活性剂在温度为0~100℃避光条件下搅拌混合;所述的混合液中低聚物为0~90wt%、单体为7~85wt%、光引发剂为0.5~5wt%、改性剂为0~30wt%、表面活性剂为0.2~15wt%;

3)涂膜工艺:在步骤1)得到的清洁干净的刚性或柔性基材表面涂覆步骤2)得到的电子纸微杯材料;

4)预烘工艺:将步骤3)得到的表面带有电子纸微杯材料的基材在温度为40~100℃下烘烤;

5)掩膜曝光工艺:在步骤4)得到的基材的电子纸微杯材料上加带有图案的掩膜,在紫外灯下曝光,然后移去掩膜;

6)显影工艺:在显影液中对步骤5)曝光后带有电子纸微杯材料的基材进行显影;在基材上得到掩膜图案的电子纸微杯结构;

所述的丙烯酸酯的聚合体或改性的丙烯酸酯聚合体中的丙烯酸酯单元具有下列结构中的一种或多种:①分子中含有酸的结构和/或铵盐结构,酸值范围为20~400;②分子中含有芳基、烷基、烷氧基、胺基、氨基酯链段结构中一种或多种;③分子结构是双酚A环氧丙烯酸酯、双酚A环氧甲基丙烯酸酯、酚醛环氧丙烯酸酯、酚醛环氧甲基丙烯酸酯、含硅丙烯酸酯、含硅甲基丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚氨酯甲基丙烯酸酯、含氟或全氟丙烯酸酯、含氟或全氟甲基丙烯酸酯系列结构中的一种或多种,其结构中含有硅元素、氟元素、环氧基团或聚氨酯基团中的一种或多种;④分子中具有1~6个不饱和键,所述的不饱和键结构是碳碳双键、碳碳叁键、碳氮双键、碳氧双键中的一种或多种;

所述的单体中的丙烯酸酯分子结构中具有下列结构中的一种或多种:①分子中含有酸的结构和/或铵盐结构,酸值范围为20~400;②分子中含有芳基、烷基、烷氧基、胺基、氨基酯链段结构中一种或多种;③分子结构是双酚A环氧丙烯酸酯、双酚A环氧甲基丙烯酸酯、酚醛环氧丙烯酸酯、酚醛环氧甲基丙烯酸酯、含硅丙烯酸酯、含硅甲基丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚氨酯甲基丙烯酸酯、含氟或全氟丙烯酸酯、含氟或全氟甲基丙烯酸酯系列结构中的一种或多种,其结构中含有硅元素、氟元素、环氧基团或聚氨酯基团中的一种或多种;④分子中具有1~6个不饱和键,所述的不饱和键结构是碳碳双键、碳碳叁键、碳氮双键、碳氧双键中的一种或多种;

所述的自由基型光引发剂是α-羟烷基苯酮型、α-胺烷基苯酮型、二烷氧基苯乙酮型、酰基膦氧化物、二苯甲酮、硫杂蒽酮中的一种或一种以上的混合物;

所述的改性剂中的丙烯酸酯是丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、可聚合丙烯酸酯中的一种或多种;

所述的酸酐是顺丁烯二酸酐、苯酐、四氢苯酐、六氢苯酐、戊二酸酐中的一种或多种;所述的胺是三乙醇胺、烷基取代的二乙醇胺、胺改性的丙烯酸酯、胺改性的烷基丙烯酸酯中的一种或多种;其中所述的烷基是C1~C30烷基;

所述的偶联剂是硅烷偶联剂、钛酸酯偶联剂、铝酸酯偶联剂或它们的混合物。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征是:在基材上得到掩膜图案的电子纸微杯结构后,用洗涤液冲洗,洗去杂质;在温度为100~120℃下烘烤。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征是:所述的在步骤1)得到的清洁干净的刚性或柔性基材表面涂覆步骤2)得到的电子纸微杯材料,其涂覆厚度为10~250μm。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征是:所述的掩膜材料是透明材料;所述的掩膜图案是任意几何形状。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征是:所述的步骤4)在温度为40~100℃下烘烤时间是5~100分钟。

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