[发明专利]一种用于交换偏置型磁电阻传感器元件的多层膜材料无效
申请号: | 200710177709.9 | 申请日: | 2007-11-20 |
公开(公告)号: | CN101150171A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
发明(设计)人: | 于广华;张辉;丁雷;王乐;滕蛟;王立锦 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | H01L43/10 | 分类号: | H01L43/10;H01L43/08;H01L43/12;H01F10/00 |
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地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 交换 偏置 磁电 传感器 元件 多层 材料 | ||
1.一种用于交换偏置型磁电阻传感器元件的多层膜材料,其特征是Ta/NiCo/Ta多层膜中插入FeMn层制得Ta/NiCo/FeMn/Ta多层膜材料。
2.按照权利要求1所述的一种用于交换偏置型磁电阻传感器元件的多层膜材料,其特征是所述的NiCo合金成分为Ni65Co35。
3.一种用于交换偏置型磁电阻传感器元件,其特征是包含权利要求1或2所述的所述多层膜材料。
4.按照权利要求3所述的一种交换偏置型磁电阻传感器元件,其特征在于:通过磁控溅射在所述的Ta/NiCo/FeMn/Ta多层膜结构元件上沉积一层Au电极薄膜,厚度为10-2000nm,经光学曝光、离子刻蚀后制得Au电极层。
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