[发明专利]阴图型感红外光组合物和阴图型印刷版及其使用方法有效
申请号: | 200710180520.5 | 申请日: | 2007-11-22 |
公开(公告)号: | CN101439610A | 公开(公告)日: | 2009-05-27 |
发明(设计)人: | 江磊;赵伟建;宋小伟;田东东 | 申请(专利权)人: | 乐凯集团第二胶片厂 |
主分类号: | B41C1/055 | 分类号: | B41C1/055;B41M5/36 |
代理公司: | 郑州中原专利事务所有限公司 | 代理人: | 霍彦伟 |
地址: | 473003河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阴图型感 红外光 组合 阴图型 印刷 及其 使用方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种感光组合物,具体涉及一种用来制作阴图印刷版的感光组合物,另外涉及到用该组合物制备的印刷版及其使用方法。
背景技术
在传统的胶印印刷工作流程中,版材一般由亲水性版基和涂布在其上的树脂层组成,经过曝光、显影加工,得到可以上机印刷的版材。曝光之后的版材可以通过适当的显影过程来去除非影像部分,使亲水性的版基露出。如果曝光部分被显影过程除去,未曝光部分保留下来形成影像,则称之为阳图型版材;反之,如果曝光部分保留下来形成影像,未曝光部分被除去,则称之为阴图型版材。显影过程中使用的显影液主要由碱水溶液以及部分必需的有机溶剂、表面活性助剂等组成。由于显影液pH值较高,且含有部分有机物,废液排放必须经过严格的处理以保证不对环境造成危害。并且,对于印刷用户来说,显影过程也会增加材料、人工成本,且可能会因为显影条件的微小差异而造成印版质量的不一致。
显然,上述的“湿式”显影过程的缺点是耗时、成本很高。而且,当采用挥发性有机物或强碱作为显影剂时,这些废液的处理将带来环境问题。基于环境友好、节约成本的思想,“无处理版材”的概念逐渐得到人们的认可。“无处理”指的是版材经曝光之后无需碱水显影加工,仅仅需要简单的水洗、上胶处理,甚至不经过任何处理就可以直接上机印刷的一类版材技术。
热烧蚀技术已经应用于无处理版材领域多年,但烧蚀型版材在成像时需要高能激光对版面进行曝光,在此过程中会产生大量的烧蚀粉尘等杂质,这些杂质会影响成像设备的光学性能,如果这些杂质附着于版面,也可能会导致印品缺陷。为了使成像设备正常运转,保持印刷品质量稳定,在成像设备内部,必须安装特殊的部件以收集和处理这些杂质,这增加了设备的维护成本。因此,无处理印刷版除了要求能够稳定成像之外,且没有收集和处理烧蚀杂质的麻烦。
美国专利公开US 5922512中描述了一种采用“可转变聚合物”(Switchable Polymer)的感红外光的平版印刷前体。这种可转变聚合物由乙烯衍生物均聚或共聚而成,其中至少有25%(摩尔分数)的主链或侧链部分具有五员羧酸酐环 结构。五员羧酸酐环在受热(红外光)辐射后发生分解,形成憎水的醛基化合物。未受热部分则保持酸酐环结构,如果接触到水则易于水解成为亲水性的羧酸。通过版面亲水性的差异纪录下影像并且实现印刷。US 5922512中的平版印刷前体的优点是无需任何显影处理过程,也不会产生烧蚀杂质,曝光后的版材可以直接安装在印刷机上面进行印刷。但是,这一方法存在着缺点,在存放过程中,随着时间的推移和温度/湿度变化的影响,五员羧酸酐环不可避免地会发生分解或水解,使版材的质量变得不稳定,容易导致印刷时印刷品空白部分墨色太重或版材着墨性变差。
中国专利公开CN 1475344A中描述了另外一种印刷版热敏组成物,其中含有乙烯基醚-马来酸共聚物、三聚氰胺树脂、红外吸收染料和酚醛清漆树脂,这种热敏组成物在暴露于热量之前具有良好的亲水性,而在暴露于热量之后则显示出良好的亲油性。但这一方法的缺点同样是空白部分非常容易上脏,导致印刷品墨色太重。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有板材存在的随着时间的推移板材的质量变得不稳定的缺点,提供一种感光度高、保存性能良好、耐印刷性好和耐化学性好的阴图型感红外光组合物。
本发明的另一目的是提供一种利用本发明的阴图型感红外光组合物制备的印刷版及印刷版的使用方法。
本发明的目的可以通过以下措施来实现:
本发明的阴图型感红外光组合物,该组合物主要含有:(1)45-75重量份的亲水性聚合物,(2)5-30重量份的环氧化合物,(3)5-25重量份的红外吸收剂,(4)1-12重量份的产酸源。
本发明的感红外光组合物,各组分优选的的配比为:(1)55-70重量份的亲水性聚合物,(2)10-20重量份的环氧化合物,(3)10-20重量份的红外吸收剂,(4)4-10重量份的产酸源。
本发明的阴图型感红外光组合物种所述的亲水性聚合物为具有下述结构式(I)的聚合物:
(I)
其中,
R1为氢原子或C1-C6烃基,优选为氢原子或甲基;
R2为氢原子或C1-C6羟烷基,优选为氢原子或羟甲基;
m∶n=1∶0.5-2。
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