[发明专利]设计存储器寄存器的方法和系统

权利要求书

1.一种设计寄存器布图的方法，包括：

从技术规格和项目规格获得一组项目特定布图约束。

2.根据权利要求1的方法，还包括使用所述项目特定布图约束修改通用寄存器形成规则。

3.根据权利要求2的方法，还包括将所述修改的通用寄存器形成规则用于定制寄存器设计要求，以形成寄存器布图。

4.根据权利要求1的方法，其中所述项目规格包括选自于以下参数的一个或多个参数：晶体管尺寸、晶体管特征、金属互联规则、制造网格、每个寄存器的最大位数、标准寄存器布图拓扑、逻辑/电工作计算方法、以及“时钟”信号分布方法。

5.根据权利要求2的方法，其中所述通用寄存器形成规则包括选自于以下参数的一个或多个参数：用于所述寄存器中的存储单元的晶体管尺寸、电源位置、本地时钟缓冲器尺寸、“时钟”信号的结构、以及“时钟”信号电容负载。

6.根据权利要求3的方法，其中所述定制寄存器设计要求包括选自于以下参数的一个或多个参数：位数、时钟底板的位置和尺寸、锁存类型、信号驱动强度、极性、可测试性选项和布图中的数据流方向。

7.根据权利要求3的方法，其中所述寄存器布图是选自于以下形式的一种或多种形式：逻辑示意图、符号图、和物理布图。

8.根据权利要求3的方法，其中所述寄存器布图是可执行代码。

9.一种用于设计寄存器布图的系统，包括：

项目特定布图约束形成模块，其适于从技术规格和项目规格获得一组项目特定布图约束。

10.根据权利要求9的系统，还包括规则修改模块，用于使用所述项目特定布图约束修改通用寄存器形成规则。

11.根据权利要求10的系统，还包括布图形成模块，用于将所述修改的通用寄存器形成规则用于定制寄存器设计要求，以形成寄存器布图。

12.根据权利要求9的系统，其中所述项目规格包括选自于以下参数的一个或多个参数：晶体管尺寸、晶体管特征、金属互联规则、制造网格、每个寄存器的最大位数、标准寄存器布图拓扑、逻辑/电工作计算方法，以及“时钟”信号分布方法。

13.根据权利要求10的系统，其中所述通用寄存器形成规则包括选自于以下参数的一个或多个参数：用于寄存器中的存储单元的晶体管尺寸、电源位置、本地时钟缓冲器尺寸、“时钟”信号的结构、和“时钟”信号电容负载。

14.根据权利要求11的系统，其中所述定制寄存器设计要求包括选自于以下参数的一个或多个参数：位数、时钟底板位置和尺寸、锁存类型、信号驱动强度、极性、可测试性选项和布图中的数据流方向。

15.根据权利要求11的系统，其中所述寄存器布图是选自于以下形式的一种或多种形式：逻辑示意图、符号图、和物理布图。

16.根据权利要求11的系统，其中所述寄存器布图为可执行代码。