[发明专利]密封装置和利用该密封装置制造显示装置的方法有效
申请号: | 200710180978.0 | 申请日: | 2007-10-10 |
公开(公告)号: | CN101179032A | 公开(公告)日: | 2008-05-14 |
发明(设计)人: | 李钟禹;金兑承;朴峻永;郭源奎 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/56;H01L21/52 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;邱玲 |
地址: | 韩国京畿道*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 密封 装置 利用 制造 显示装置 方法 | ||
本中请要求于2006年11月9日在韩国知识产权局提交的第2006-0110572号韩国专利申请的优先权,该申请的全部内容通过引用被包含于此。
技术领域
本发明涉及一种密封装置和利用该密封装置制造显示装置的方法,更具体地讲,本发明涉及一种包括用于局部照射光的掩模的密封装置和利用该密封装置制造显示装置的方法。
背景技术
通常,有机发光显示装置包括:基底,提供有像素区和非像素区;容器或基底,与上述基底相对设置用来包封,并且通过密封剂(例如,环氧树脂)附于上述基底。
在基底的像素区中形成以矩阵形式连接在扫描线和数据线之间的多个发光器件,发光器件包括阳极和阴极以及形成在阳极和阴极之间的有机薄膜层,有机薄膜层具有空穴传输层、有机发光层和电子传输层。
然而,由于发光器件包含有机材料,所以发光器件易受氢和氧的影响,并且由于阴极由金属材料形成,所以发光器件容易被空气中的潮气氧化,使得发光器件的电学特性和发光特性劣化。为了防止这种问题,通过将吸湿材料以粉末形式放置在由金属材料形成的罐或杯形式的容器中或者玻璃或塑料基底上、或者通过将吸湿材料以膜的形式与容器或基底结合来去除从外部渗透的潮气。
然而,以粉末形式放置吸湿材料的方法使工艺复杂并且增加材料成本和工艺成本,从而增加显示装置的厚度。因此,难以将该方法应用到顶部发光显示装置。另外,以膜的形式结合吸湿材料的方法会使去除潮气的能力受到限制,并且耐久性和可靠性差,从而使得批量生产困难。
为了解决上述问题,已经采用了利用密封材料(例如,玻璃料)并通过照射激光来结合密封材料的方法。
第2001-0084380号韩国专利特开(2001年9月6号)公开了一种利用激光来密封玻璃料框的方法。
第2002-0051153号韩国专利特开(2002年6月28号)公开了一种利用激光将上基底和下基底附于玻璃料层的封装方法。
发明内容
因此,本发明特定的方面提供了一种能够均匀地结合密封材料和基底的密封装置。
本发明的一方面是一种利用密封装置来制造显示装置的方法,其中,所述密封装置能够通过均匀地结合密封材料和基底而改进密封效果和可靠性。
根据另一方面,密封装置用于通过在彼此相对的第一基底和第二基底的边缘设置密封材料并且通过对密封材料照射光来结合第一基底和第二基底,所述密封装置包括:台,密封材料设置在其间的第一基底和第二基底安装在台上;掩模,设置在台的一侧上,在所述掩模中,与密封材料的形成位置对应地形成透射部分,使得光可以照射到密封材料;光头,通过掩模的透射部分对密封材料照射光。在密封装置中,在掩模的透射部分中形成用于调节对密封材料照射的光的量的图案。
另一方面是一种制造显示装置的方法,所述方法包括以下步骤:通过将第一基底和第二基底设置为彼此相对并且使密封材料位于第一基底和第二基底之间来将第一基底和第二基底安装在台上;放置掩模,在掩模中,在与形成的密封材料的位置对应的部分处形成透射部分,在透射部分形成预定图案;通过对透射部分照射光将密封材料结合到第一基底。在该方法中,通过形成在透射部分中的图案来调节照射的光的量。
本发明的一方面是一种密封装置,所述密封装置通过沿着第一基底和第二基底的边缘设置密封材料并且通过对密封材料照射光来结合第一基底和第二基底。
所述密封装置包括:掩模,设置在第二基底上,包括与密封材料对应形成的透射部分,其中,第二基底堆叠在第一基底上;光头,通过掩模的透射部分对密封材料照射光。掩模的透射部分包括用于调节对密封材料照射的光的多个图案。
掩模的透射部分可以包括具有不同透射率的图案的多个区域。多个图案可以与密封材料的至少一部分对齐。可以通过多个图案来控制密封材料上的光的能量分布。
透射部分可以包括:第一区域,位于透射部分的中心部分;第二区域,位于第一区域的两侧,第一区域和第二区域中的图案的透射率可以不同。第一区域中的图案的透射率可以低于第二区域中的图案的透射率。所述图案可以包括多条不透明的线,可以通过所述图案的不透明的线的密度来控制透射率。
透射部分可以包括位于一侧的第一区域和位于另一侧的第二区域,第一区域和第二区域中的图案的透射率不同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710180978.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造