[发明专利]干膜、微透镜以及它们的制造方法无效
申请号: | 200710181198.8 | 申请日: | 2007-10-18 |
公开(公告)号: | CN101165592A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
发明(设计)人: | 吉田伸;石川真义;林明弘;饭田雅史 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;李平英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 以及 它们 制造 方法 | ||
1.干膜,其特征在于,包含:
(I)具有三维十点平均粗糙度SRz为2.2μm以下、三维最大高度SRmax为4.0μm的表面且厚度是10~50μm的基膜,
(II)在上述基膜(I)的表面上叠层的厚度为2~200μm的放射线敏感性树脂组合物层,和
(III)覆盖上述放射线敏感性树脂组合物层(II)的盖膜。
2.权利要求1所述的干膜,其中所述(III)盖膜是实施了剥离处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
3.权利要求1所述的干膜,其中所述(III)盖膜是具有胶粘性树脂层的聚乙烯膜。
4.权利要求3所述的干膜,其中将胶粘性树脂层的粘附力表示为在23℃下把它贴合在聚甲基丙烯酸甲酯板上时的粘附力的情况下,为0.01~0.30N/50mm宽。
5.权利要求1所述的干膜,其中所述放射线敏感性树脂组合物层(II)含有(A)碱可溶性共聚物、(B)聚合性不饱和化合物和(C)光聚合引发剂。
6.权利要求5所述的干膜,其中所述(A)碱可溶性共聚物是由(a)具有酸性官能团的聚合性不饱和化合物5~60重量%和(b)其它聚合性不饱和化合物40~95重量%按(a)+(b)=100重量%聚合得到的。
7.权利要求6所述的干膜,其中所述(A)碱可溶性共聚物包含使用含有N位取代马来酰亚胺的(b)其它聚合性不饱和化合物所得到的碱可溶性共聚物。
8.权利要求6所述的干膜,其中所述(A)碱可溶性共聚物是使用含有N位取代马来酰亚胺的(b)其它聚合性不饱和化合物所得到的碱可溶性共聚物与不含有N位取代马来酰亚胺的(b)其它聚合性不饱和化合物所得到的碱可溶性共聚物的混合物。
9.权利要求7或8所述的干膜,其中N位取代马来酰亚胺衍生的重复单元的比例相对于(A)碱可溶性共聚物的总体为1~30重量%。
10.权利要求1至8任何1项所述的干膜,其中在所述(II)放射线敏感性树脂组合物层中进一步含有(D)热聚合性化合物。
11.权利要求1至8任何1项所述的干膜,其中所述基膜(I)表面的三维十点平均粗糙度SRz在0.8μm以下、三维最大高度SRmax在0.9μm以下。
12.权利要求1至8任何1项所述的干膜,用于形成微透镜。
13.干膜制造方法,其特征在于,至少包括下述工序(1)和(2):
(1)在有三维十点平均粗糙度SRz为2.2μm以下、三维最大高度SRmax为4.0μm的表面且厚度是10~50μm的基膜(I)的表面上形成厚度为2~200μm的放射线敏感性树脂组合物层(II)的工序,和
(2)在上述放射线敏感性树脂组合物层(II)上贴盖膜(III)的工序。
14.微透镜的形成方法,其特征在于,至少含有下述工序(i)~(iv):
(i)把权利要求12所述的干膜的放射线敏感性树脂组合物层转印到基板上而在基板上形成放射线敏感性树脂组合物膜的工序、
(ii)用射线辐照此膜的至少一部分的工序、
(iii)把辐照后的膜显影的工序,和
(iv)把显影后的膜加热的工序。
15.使用由权利要求12所述的微透镜形成用干膜所形成的微透镜。
16.具有权利要求15所述的微透镜的液晶显示元件。
17.放射线敏感性树脂组合物,其特征在于含有(A)碱可溶性共聚物、(B)聚合性不饱和化合物和(C)光聚合引发剂,并用于形成微透镜,其中所述(A)碱可溶性共聚物是由(a)具有酸性官能团的聚合性不饱和化合物5~60重量%和(b)含有N位取代马来酰亚胺的其它聚合性不饱和化合物40~95重量%按(a)+(b)=100重量%聚合得到的。
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